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半導體技術不會停！華為又拿下一個專利：可降低工藝成本

2023-06-21 14:18:39來源：快科技關鍵詞：半導體技術芯片制造晶體管閱讀量：22432

導讀：6月20日消息，作為國內(nèi)專利數(shù)最多的公司之一，華為近年來也獲得了大量半導體技術上的專利，日前華為又拿下了一種制備晶體管的專利，可以降低工藝成本。

　　這個專利公開號為CN116266536A，涉及的專利名稱為“晶體管的制備方法和晶體管”，用于制備芯片基礎單元晶體管的。

　　專利摘要顯示，本申請晶體管的制備方法，利用在蝕刻層間介質(zhì)層進行開設槽型孔的過程中一并蝕刻去除所述虛擬柵極，并利用槽型孔形成金屬柵極。

　　相比現(xiàn)有高介電常數(shù)金屬柵極制備工藝，可節(jié)省工藝步驟，降低工藝成本。

　　具體方法包括提供半導體襯底；在半導體襯底上依次層疊形成氧化物介質(zhì)層、高K介質(zhì)層、虛擬柵極；在半導體襯底中開設凹槽，并在凹槽中形成源極和漏極；

　　形成覆蓋半導體襯底和虛擬柵極的層間介質(zhì)層；在層間介質(zhì)層中形成分別對準源極和漏極的通孔和對準虛擬柵極的槽型孔，在形成槽型孔的過程中去除虛擬柵極；

　　在槽型孔和通孔中形成導電金屬材料。本申請還提供應用該方法制得的晶體管。

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