Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠：沖刺“4nm”工藝

2022-01-20 13:33:26來(lái)源：快科技關(guān)鍵詞：極紫外光刻設(shè)備芯片制造 4nm工藝閱讀量：23662

導(dǎo)讀：位于愛(ài)爾蘭萊克斯利普(Leixlip)、投資70億美元的Intel Fab 34晶圓廠迎來(lái)重要時(shí)刻：一臺(tái)光刻膠顯影設(shè)備(lithography resist track)緩緩進(jìn)入工廠，這也是該廠的第一臺(tái)巨型芯片制造工具。

　　位于愛(ài)爾蘭萊克斯利普(Leixlip)、投資70億美元的Intel Fab 34晶圓廠迎來(lái)重要時(shí)刻：一臺(tái)光刻膠顯影設(shè)備(lithography resist track)緩緩進(jìn)入工廠，這也是該廠的第一臺(tái)巨型芯片制造工具。

　　該設(shè)備來(lái)自Intel美國(guó)俄勒岡州工廠，搭乘飛機(jī)越過(guò)大西洋，來(lái)到了愛(ài)爾蘭。

　　這臺(tái)設(shè)備將與EUV極紫外掃描儀搭檔，首先為硅晶圓覆上精密的涂層，然后進(jìn)入EUV掃描儀，進(jìn)行曝光，接著晶圓回到光刻設(shè)備，再進(jìn)行一系列的高精密光顯影、清理操作。

　　一座典型的晶圓廠包含大約1200臺(tái)先進(jìn)制造設(shè)備，大部分價(jià)值都在百元美元級(jí)別。

　　Intel Fab 34晶圓廠2019年動(dòng)工建設(shè)，計(jì)劃2023年正式投產(chǎn)，將會(huì)把Intel在愛(ài)爾蘭的產(chǎn)能翻一番，并為未來(lái)生產(chǎn)Intel 4工藝鋪平道路——嚴(yán)格來(lái)說(shuō)是Intel 7nm，但是官方重新命名，認(rèn)為它可以媲美行業(yè)4nm水平。

　　Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7工藝(10nm ESF)，Meteor Lake 14代酷睿和代號(hào)Granite Rapids的下下代至強(qiáng)都將用上Intel 4工藝。

　　官方透露，新工藝研發(fā)進(jìn)展順利，芯片測(cè)試已經(jīng)完美通過(guò)，SRAM、邏輯單元、模擬單元都符合規(guī)范，去年第二季度還早早完成了Meteor Lake計(jì)算單元模塊的流片。

　　Intel現(xiàn)階段正在全球建設(shè)、升級(jí)晶圓廠，除了愛(ài)爾蘭還有美國(guó)本土的亞利桑那州、新墨西哥州、俄勒岡州，以及馬來(lái)西亞，投資上百億美元，很快還會(huì)宣布在歐洲、美國(guó)的更多晶圓廠建設(shè)計(jì)劃。

　　原標(biāo)題：Intel EUV極紫外光刻設(shè)備進(jìn)廠：沖刺“4nm”工藝

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