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Intel要嘗鮮！ASML新一代EUV光刻機(jī)開(kāi)造

2021-09-02 09:01:34來(lái)源：快科技關(guān)鍵詞：EUV光刻機(jī)半導(dǎo)體設(shè)備閱讀量：24080

導(dǎo)讀：ASML當(dāng)前一代極紫外光刻機(jī)可以制造出分辨率為13nm的芯片。新一代極紫外光刻機(jī)將使用更高數(shù)值孔徑來(lái)制作8nm大小的特征圖案。

　　據(jù)外媒新報(bào)道稱，ASML已經(jīng)開(kāi)始制造新一代極紫外（EUV）光刻機(jī)，其每臺(tái)造價(jià)達(dá)到了1.5億美元，約合人民幣近97億元。

　　據(jù)悉，在位于美國(guó)康涅狄格州郊區(qū)的一間大型潔凈室里，ASML工程師們已經(jīng)開(kāi)始為一臺(tái)機(jī)器制造關(guān)鍵部件，這臺(tái)機(jī)器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時(shí)間。

　　新一代極紫外光刻機(jī)大約有一輛公共汽車(chē)那么大，造價(jià)1.5億美元。整個(gè)機(jī)器包含10萬(wàn)個(gè)部件和2公里長(zhǎng)的電纜。每臺(tái)機(jī)器發(fā)貨需要40個(gè)集裝箱、3架貨機(jī)或者20輛卡車(chē)。只有諸如臺(tái)積電、三星和Intel等少數(shù)公司能買(mǎi)得起這種機(jī)器。

　　“這真是一臺(tái)不可思議的機(jī)器，”麻省理工學(xué)院研究新型晶體管架構(gòu)的教授Jesús del Alamo說(shuō)。“這絕對(duì)是一款革命性的產(chǎn)品，是一項(xiàng)突破，將給芯片行業(yè)帶來(lái)新的生命。”

　　造好的組件將于2021年底運(yùn)往荷蘭維荷芬，然后在2022年初安裝到新一代極紫外光刻機(jī)的第一臺(tái)原型機(jī)中。Intel可能會(huì)使用這種新機(jī)器制造出第一批芯片。

　　Intel表示，預(yù)計(jì)將在2023年下線第一批芯片。憑借比以往任何機(jī)器所蝕刻的圖案尺寸更小，讓每個(gè)芯片都有數(shù)百億個(gè)元件，這臺(tái)機(jī)器在未來(lái)幾年所生產(chǎn)的芯片應(yīng)該是處理速度快、效率非常高的。

　　值得一提的是，新一代極紫外(EUV)光刻機(jī)采用更大的數(shù)值孔徑來(lái)進(jìn)一步縮小芯片上的元件尺寸。這種方式允許光線以不同角度穿過(guò)光罩，從而增加圖案成像的分辨率。這就需要更大的鏡子和新的軟硬件來(lái)精確控制組件蝕刻。

　　ASML當(dāng)前一代極紫外光刻機(jī)可以制造出分辨率為13nm的芯片。新一代極紫外光刻機(jī)將使用更高數(shù)值孔徑來(lái)制作8nm大小的特征圖案。

　　目前臺(tái)積電在芯片制造過(guò)程中使用的就是極紫外光刻技術(shù)。其客戶包括蘋(píng)果、NV和Intel。

　　(原標(biāo)題：Intel要嘗鮮！ASML新一代EUV光刻機(jī)開(kāi)造：造價(jià)、配置堪稱無(wú)敵)

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