真空等離子清洗設(shè)備有何組成結(jié)構(gòu)及應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

此設(shè)備用氣體作為處理介質(zhì)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對(duì)固體樣品表面進(jìn)行相互作用，引起分子結(jié)構(gòu)改變，從而對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對(duì)環(huán)境和樣品帶來的二次污染。

真空等離子清洗設(shè)備外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面，短時(shí)間就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗能力達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗機(jī)可對(duì)樣品的表面改性，加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，也可對(duì)樣品消毒和殺菌。在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的等離體，繼而通過等離子體轟擊加工面對(duì)象表面，產(chǎn)生微觀上面剝離效果（調(diào)整等離子轟擊時(shí)間就可以調(diào)整剝離深度，等離子的作用是納米級(jí)的，所以不會(huì)損壞加工對(duì)象），以達(dá)到作業(yè)目的。

真空等離子清洗設(shè)備有何組成結(jié)構(gòu)及應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

真空等離子清洗設(shè)備：

1.控制單元： ●控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、 PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式（包括國(guó)外進(jìn)口的） ●控制單元又分為兩個(gè)大的部分： A:電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，13.56MHz是需要電源匹配器的，而2.45GHz又稱為微波等離子 B :系統(tǒng)控制單元：分三種，按鈕控制（半自動(dòng)、全自動(dòng)）、電腦控制、PLC控制（液晶觸摸屏控制）

2.真空腔體：不銹鋼和石英腔體

3.真空泵： 干泵和油泵

真空腔的設(shè)置具有很強(qiáng)的靈活性，腔內(nèi)有可調(diào)節(jié)層極板插槽，根據(jù)需要每個(gè)插槽內(nèi)的極板都可以設(shè)置為獨(dú)立的陽極、陰極。也可以根據(jù)需要來調(diào)整極板間的距離，來達(dá)到不同的工藝效果。由于勻氣腔、抽氣口、以及陽極、陰極極結(jié)構(gòu)*的氣流設(shè)計(jì)。等離子技術(shù)在橡塑行業(yè)的應(yīng)用已非常成熟，其相關(guān)產(chǎn)值逐年增加，國(guó)外市場(chǎng)比國(guó)內(nèi)市場(chǎng)產(chǎn)值高，但國(guó)內(nèi)可發(fā)展空間大，應(yīng)用前景誘人。