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主要用途：
1）半導(dǎo)體化學(xué)機械拋光（CMP）料漿；
2）陶瓷；
3）油墨；
4）乳劑穩(wěn)定性；
5）藥品；
6）生物膠體；
7）熒光粉；
8）有機和無機顏料如Ti02和炭黑；
9）催化劑；
10）礦物；
11）聚合物乳液；
12）水和非水分散體系；
原理簡介：
APS 從聲衰減光譜測量產(chǎn)生PSD數(shù)據(jù)，不需要稀釋樣品。APS還測量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導(dǎo)率和溫度。
當聲音穿越泥漿或膠體時，是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關(guān)。APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內(nèi)非常準確地測量聲音衰減。因為聲音穿過所有的物質(zhì)媒介，APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進行。粒子沉降并不是一個問題，因為在測量時樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。
APS取樣分析是快速和容易的，無需稀釋樣品。稀釋樣品費時，容易出錯，并可能改變樣品的實際PSD。簡單地倒，或者連續(xù)泵送樣品進入到APS的樣品室，APS的直觀的軟件在幾分鐘內(nèi)做玩余下的工作。
計算詳細PSD數(shù)據(jù)的技術(shù)，不需要假設(shè)PSD形狀。其他類型的儀器，例如光散射，意味著軟件或操作者假設(shè)或猜測PSD是單峰、雙峰、對數(shù)正態(tài)或高斯分布的。這種假設(shè)可能導(dǎo)致數(shù)據(jù)不可靠。
的APS硬件設(shè)計簡化了操作，同時減少維護。這個設(shè)計適合研發(fā)以及重復(fù)質(zhì)量控制測量。APS也適合過程在線操作。
技術(shù)參數(shù)：
1）完整的粒度分布,而不是簡單的平均值和標準偏差大小的數(shù)據(jù)；
2）不需要稀釋樣品；
3）不需要假設(shè)PSD形狀；
4）粒度范圍：0.005-100微米；
5）無電解質(zhì)干涉；
6）可測量水的/非水的/不透明的/粘性的樣品；
7）可測量縱向粘度，%固體，PH值，電導(dǎo)率，溫度，聲衰減和聲速度譜；
8）具有自動滴定選項；
9）技術(shù)：1-100MHz聲衰減譜；
10）溶劑：水/非水；
11）樣品固體%：0.1-60%體積比；
12）樣品體積：標準是120ml，50ml小體積可用；
