銘版 Chromo mask  干版 Emulsion Mask  凸版 PI Sheet  光繪菲林 Film

光掩膜版（Photomask）又稱光罩，是在含有金屬薄膜的玻璃基板（Blanks）上，形成復(fù)雜幾何圖（Geometry）的圖形轉(zhuǎn)移母板即俗稱的Mask。例如在半導(dǎo)體的曝光制程中，利用光掩膜版模板以及曝光的手段就能夠在硅基板上形成電路Pattern?，F(xiàn)在，隨著LCD的大型化和高效能化，光掩膜版也在不斷的提高自身的精細(xì)化以及大尺寸化，比如在超過1200mm的玻璃上，實現(xiàn)線寬必須達到數(shù)微米的高精準(zhǔn)度的要求。

光掩膜版制程簡單來描述，是在基板（Blanks）上涂上光阻（Resist）材料，利用鐳射電子束設(shè)備繪刻出所需的各種Geometry，并繼續(xù)進行顯影的制程，去除掉基板（Blanks）上多余的光阻材料，再透過蝕刻的制程，去除掉不被光阻材料覆蓋的金屬膜，zui后再清洗殘留下來的光阻材料，zui后便會依照鉻膜的線路，讓Geometry留在玻璃基板上。zui后還必須進行檢查、測量并確認(rèn)是否正確精準(zhǔn)的形成了Geometry，并在超高精細(xì)的光掩膜版上貼附用來防止灰塵以及靜電的保護膜（Coating）之后出廠。

目前光掩膜版的基板材料，較常被使用的有石英玻璃和蘇打玻璃（Soda-lime）玻璃兩種。蘇打玻璃較多被應(yīng)用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL等產(chǎn)品的生產(chǎn)上，而用于TFT-LCD的光掩膜版，由于熱膨脹率小，所以尺寸精度要求較高，并且因為需要有90％以上的良好透光率，因此采用了能實現(xiàn)高精細(xì)程度Geometry的石英玻璃。而利用鉻元素作為遮光材料的理由是，鉻不但可以鍍出均一的厚度，并且在蝕刻制程中還能加工出精細(xì)的線路，實現(xiàn)更高分辨率的目標(biāo)，而且光掩膜版上的鉻是一種無毒害無污染的元素，符合Rohs安全管控標(biāo)準(zhǔn)，所以目前就用來光掩膜版的遮光材料這一方面，可以說目前還沒有比金屬鉻更合適的材料。
1、PCB、LCD掩模版、干版掩模版、包括BGA、HDI等；
2、TFT、彩色STN、STN和TNLCD鉻版掩膜版；
3、STN、TN超微粒干版掩模版；
4、EL、OLED、Display鉻版掩模版；
5、IC Lead Frame鉻版掩模版；
6、PDP/VFD用鉻版、干版掩模版；
7、精細(xì)電子元器件用掩模版，包括貼片式電感、電容、電阻和傳感器等；
8、各種*集成電路封裝基板鉻版，干版掩模版；
9、各種編碼用鉻版掩模版；
10、LCD用300、400線PI印刷凸版。
掩模版設(shè)備/PP放版架/PP涼版架/PVC顯影槽/全自動掩膜版蝕刻設(shè)備/蝕刻槽/蝕刻生產(chǎn)線/清洗籃/鉻版掩模版設(shè)備銘版 Chromo mask 干版 Emulsion Mask 凸版 PI Sheet 光繪菲林 Film