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光致發(fā)光光譜成像測量系統(tǒng)

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公司名稱北京卓立漢光儀器有限公司
品牌
型號PMEye-3000
所在地北京市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間2022/2/2 8:03:53
訪問次數(shù)749

產(chǎn)品標(biāo)簽:

光譜測量系統(tǒng)光譜成像測量系統(tǒng) 光致發(fā)光光譜成像測量系統(tǒng)

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        北京卓立漢光儀器有限公司是一家集光學(xué)、精密機(jī)械、電子、計算機(jī)技術(shù)于一體的高科技企業(yè)。卓立漢光自1999年起，通過十年的不斷努力，成長為光電儀器廠商。目前公司的電控位移臺、手動位移臺、光學(xué)調(diào)整架等產(chǎn)品已經(jīng)形成產(chǎn)品系列化,規(guī)格多元化，國內(nèi)多家科研單位、激光加工設(shè)備廠商、光纖設(shè)備廠商在使用我們的產(chǎn)品。2000年推出國內(nèi)*套量產(chǎn)型三光柵光譜儀后，不斷推出了多套熒光、拉曼、光電探測器光譜響應(yīng)、太陽能電池檢測等光譜測量系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用在眾多高校和科研院所的研究與試驗,為國家科技創(chuàng)新貢獻(xiàn)了一份力量，產(chǎn)品憑借優(yōu)良的品質(zhì)遠(yuǎn)銷歐美、東南亞等海外市場。 2005年10月在同行業(yè)中*通過ISO9001質(zhì)量管理體系SGS認(rèn)證。
         卓立漢光主要生產(chǎn)經(jīng)營：光譜儀、光譜測量系統(tǒng)、光量測儀器、電控精密位移臺、手動精密位移臺、光學(xué)調(diào)整架、光學(xué)平臺、光學(xué)元件等系列產(chǎn)品。
         我們誠心聆聽用戶的需要與批評，作為不斷改進(jìn)的動力，能讓您滿意卓立漢光的產(chǎn)品及服務(wù)，就是我們較大的成就。因此我們以卓立漢光的光機(jī)產(chǎn)品提供 “終身保固” 的承諾,來表達(dá)我們對產(chǎn)品的信心。我們堅持從設(shè)計、零件選型、制造、裝配、檢驗、包裝、運輸、直到售后服務(wù)做好*質(zhì)量保證，就是要讓您 “付有所值”，以合理的價位得到優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，這是我們對您選擇卓立漢光真誠的回報。
        卓立漢光始終以滿足用戶需求為宗旨，分別于上海、成都、深圳設(shè)立分公司，為用戶提供及時周到的銷售與技術(shù)服務(wù)。“研發(fā)創(chuàng)新、快速反應(yīng)、優(yōu)質(zhì)服務(wù)” 是我們的經(jīng)營理念，公司*重視優(yōu)質(zhì)高效、Z短時間為客戶開發(fā)產(chǎn)品及提供技術(shù)支持。卓立漢光真誠的希望與國內(nèi)外同仁攜手合作，為推動我國光電產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

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LED檢測儀器(系統(tǒng))，太陽能電池檢測儀器(系統(tǒng))，光譜儀，光譜測量系統(tǒng)，光量測儀器，電控精密位移臺，手動精密位移臺，光學(xué)調(diào)整架，光學(xué)平臺，光學(xué)元件

產(chǎn)品簡介在線詢價

PMEye-3000光致發(fā)光光譜成像（PL-Mapping）測量系統(tǒng)是卓立漢光研制的，用于LED外延片、半導(dǎo)體晶片、太陽能電池材料等，在生產(chǎn)線上的質(zhì)量控制和實驗室中的產(chǎn)品研發(fā)檢測。光譜系統(tǒng) 光譜測量系統(tǒng) 光譜成像測量系統(tǒng) 光致發(fā)光光譜成像測量系統(tǒng)

光致發(fā)光光譜成像測量系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

光致發(fā)光光譜成像測量系統(tǒng) PMEye-3000

PMEye-3000光致發(fā)光光譜成像（PL-Mapping）測量系統(tǒng)是卓立漢光研制的，用于LED外延片、半導(dǎo)體晶片、太陽能電池材料等，在生產(chǎn)線上的質(zhì)量控制和實驗室中的產(chǎn)品研發(fā)檢測。該系統(tǒng)對樣品的PL譜進(jìn)行Mapping二維掃描成像，掃描結(jié)果以3D方式進(jìn)行顯示，使檢測結(jié)果更易于分析和比較。該系統(tǒng)的軟件窗口界面友好，操作簡單，只需簡單培訓(xùn)就能使用。

測試原理：
PL（光致發(fā)光）是一種輻射復(fù)合效應(yīng)。在一定波長光源的激發(fā)下，電子吸收激發(fā)光子的能量，向高能級躍遷而處于激發(fā)態(tài)。激發(fā)態(tài)是不穩(wěn)定的狀態(tài)，會以輻射復(fù)合的形式發(fā)射光子向低能級躍遷，這種被發(fā)射的光稱為熒光。熒光光譜代表了半導(dǎo)體材料內(nèi)部，一定的電子能級躍遷的機(jī)制，也反映了材料的性能及其缺陷。PL是一種用于提供半導(dǎo)體材料的電學(xué)、光學(xué)特性信息的光譜技術(shù)，可以研究帶隙、發(fā)光波長、結(jié)晶度和晶體結(jié)構(gòu)以及缺陷信息等等。
應(yīng)用領(lǐng)域舉例：
LED外延片，太陽能電池材料，半導(dǎo)體晶片，半導(dǎo)體薄膜材料等檢測與研究。

主要特點：
◆ PLMapping測量
◆ 多種激光器可選
◆ Mapping掃描速度：180點/秒
◆ 空間分辨率：50um
◆ 光譜分辨率：0.1nm@1200g/mm
◆ Mapping結(jié)果以3D方式顯示
◆ zui大8吋的樣品測量
◆ 樣品精確定位
◆ 樣品真空吸附
◆ 可做低溫測量
◆ 膜厚測量

一體化設(shè)計，操作符合人體工學(xué)
    PMEye3000 PL Mapping測量系統(tǒng)采用立式一體化設(shè)計，關(guān)鍵尺寸根據(jù)人體工學(xué)理論設(shè)計，不管是樣品的操作高度和電腦使用高度，都特別適合于人員操作。主機(jī)與操作平臺高度集成，方便于在實驗室和檢測車間里擺放。儀器側(cè)面設(shè)計有可收放平臺，可擺放液晶顯示器和鼠標(biāo)鍵盤。儀器底部裝有滾輪，方便于儀器在不同場地之間的搬動。
模塊化設(shè)計
    PMEye-3000 PL Mapping測量系統(tǒng)全面采用模塊化設(shè)計思想，可根據(jù)用戶的樣品特點來選擇規(guī)格配置，讓用戶有更多的選擇余地。激發(fā)光源、樣品臺、光譜儀、探測器、數(shù)據(jù)采集設(shè)備都實現(xiàn)了模塊化設(shè)計。
操作簡便、全電腦控制
    PMEye-3000 PL Mapping測量系統(tǒng)，采用整機(jī)設(shè)計，用戶只需要根據(jù)需要放置檢測樣品，無需進(jìn)行復(fù)雜的光路調(diào)整，操作簡便；所有控制操作均通過計算機(jī)來控制實現(xiàn)。
    全新的樣品臺設(shè)計，采用真空吸附方式對樣品進(jìn)行固定，避免了用傳統(tǒng)方式固定樣品而造成的損壞；可對常規(guī)尺寸的LED外延片樣品進(jìn)行精確定位，提高測量重復(fù)精度。
兩種測量方式,用途更廣泛
    系統(tǒng)采用直流和交流兩種測量模式，直流模式用于常規(guī)檢測，交流模式用于微弱熒光檢測。
監(jiān)控激發(fā)光源,校正測量結(jié)果
    一般的PL測量系統(tǒng)只是測量熒光的波長和強(qiáng)度，而沒有對激發(fā)光源進(jìn)行監(jiān)控，而激發(fā)光源的不穩(wěn)定性將會對PL測量結(jié)果造成影響。PMEye-3000 PL Mapping測量系統(tǒng)增加對激光強(qiáng)度的監(jiān)控，并根據(jù)監(jiān)控結(jié)果來對PL測量進(jìn)行校正。這樣就可以消除激發(fā)光源的不穩(wěn)定帶來的測量誤差。
激光器選配靈活
    PMEye-3000 PL Mapping測量系統(tǒng)有多種高穩(wěn)定性的激光器可選，系統(tǒng)zui多可內(nèi)置2個激光器和一個外接激光器，標(biāo)配為1個405nm波長高穩(wěn)定激光器。用戶可以根據(jù)測量對象選配不同的激光器，使PL檢測更加精準(zhǔn)。
    可選配的激光器波長有： 405nm，442nm，532nm、785nm、808nm等，外置選配激光器波長為：325nm。
自動Mapping功能
    PMEye-3000 PL Mapping測量系統(tǒng)配置200×200mm的二維電控位移臺，zui大可測量8英寸的樣品。用戶可以根據(jù)不同的樣品規(guī)格來設(shè)置掃描區(qū)域、掃描步長、掃描速度等，掃描速度可高達(dá)每秒180個點，空間分辨率可達(dá)50um。掃描結(jié)果以3D方式顯示，以不同的顏色來表示不同的熒光強(qiáng)度。



軟件功能豐富,操作簡便我們具有多年的測量系統(tǒng)操作軟件開發(fā)經(jīng)驗，,熟悉試驗測量需求和用戶的操作習(xí)慣，從而使開發(fā)的這套PMEye-3000操作軟件功能強(qiáng)大且操作簡便。 MEye-3000操作軟件提供單點PL光譜測量及顯示，單波長的X-Y Mapping測量，給定光譜范圍的X-Y Mapping測量及根據(jù)測量數(shù)據(jù)進(jìn)行峰值波長、峰值強(qiáng)度、半高寬、給定波長范圍的熒光強(qiáng)度計算并以Mapping顯示，Mapping結(jié)果以3D方式顯示。同時具有多種數(shù)據(jù)處理方式來對所測量的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。

低溫樣品室附件
    該附件可實現(xiàn)樣品在低溫狀態(tài)下的熒光檢測。
    有些樣品在不同的溫度條件下，將呈現(xiàn)不同的熒光效果，這時就需要對樣品進(jìn)行低溫制冷。
    如圖所示，從圖中我們可以發(fā)現(xiàn)在室溫時，GaN薄膜的發(fā)光波長幾乎涵蓋整個可見光范圍，且強(qiáng)度的zui高峰出現(xiàn)在580nm附近，但整體而言其強(qiáng)度并不強(qiáng)；隨著溫度的降低，發(fā)光強(qiáng)度開始慢慢的增加，直到110K時，我們可以發(fā)現(xiàn)在350nm附近似乎有一個小峰開始出現(xiàn)，且當(dāng)溫度越降越低，這個小峰強(qiáng)度的增加也越顯著，一直到zui低溫25K時，基本上就只有一個熒光峰。
GaN薄膜的禁帶寬度在室溫時為3.40Ev,換算成波長為365nm，而我們利用PL系統(tǒng)所測的GaN薄膜在25K時在356.6nm附近有一個峰值，因此如果我們將GaN薄膜的禁帶寬度隨溫度變化情況也考慮進(jìn)去，則可以發(fā)現(xiàn)在理論上25K時GaN的禁帶寬度為3.48eV，即特征波長為357.1nm，非?？拷鼘嶒炈玫?56.6nm，因此我們可以推斷這個發(fā)光現(xiàn)象應(yīng)該就是GaN薄膜的自發(fā)輻射。

主要功能和技術(shù)參數(shù)

掃描模式	單點光譜掃描；單波長Mapping
攝譜模式	峰值波長Mapping；峰值強(qiáng)度Mapping；半高寬Mapping；給定波長范圍的熒光強(qiáng)度Mapping
膜厚測量	單點膜厚測量
光源	405nm激光（標(biāo)配）；150W溴鎢燈
光譜儀	三光柵DSP掃描光譜儀
光譜儀焦距	300mm（標(biāo)配）	500mm
光譜分辨率	0.1nm（1200g/mm光柵）	0.05nm（1200g/mm光柵）
倒線色散（nm/mm）	2.7（1200g/mm光柵） 5.4（600g/mm光柵） 10.8（300g/mm光柵）	1.7（1200g/mm光柵） 3.4（600g/mm光柵） 6.8（300g/mm光柵）
探測器	Si探測器，光譜響應(yīng)范圍：200～1100nm （標(biāo)配）
數(shù)據(jù)采集設(shè)備	帶前置放大器的數(shù)字采集器DCS300PA（標(biāo)配）鎖相放大器SR830（選配）
二維位移平臺	行程200*200mm，重復(fù)定位精度<3μm
樣品臺	具有真空吸附功能對主流的2’’,3’’,4’’,5’’,6’’,8’’的晶片可進(jìn)行精確定位
Mapping掃描速度	高達(dá)180點/秒
Mapping位移步長	zui小可到1um
空間分辨率	50um
重復(fù)定位精度	<3um

可選擇探測器

探測器類型	光譜響應(yīng)范圍
R1527光電倍增管	200～680nm
CR131光電倍增管	200～900nm
DSi300硅光電探測器	200～1100nm
DInGaAs1700常溫型銦鎵砷探測器	800～1700nm
DInGaAs1900制冷型銦鎵砷探測器	800～1900nm
DinGaAs2200制冷型銦鎵砷探測器	800～2200nm
DinGaAs2600制冷型銦鎵砷探測器	800～2600nm

可選擇的內(nèi)置激光器：

波長	穩(wěn)定性	功率
355nm	<10%	1～20mW
405nm	<1%	1～300mW
442nm	<1%	1～50mW
532nm	<1%	1～450mW
561nm	<1%	1～200mW
635nm	<1%	1～500mW
785nm	<1%	1～300mW
808nm	<1%	1～500mW