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          維意真空ALD原子層沉積鍍膜機支持定制

          參考價 286000
          訂貨量 ≥1
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任跟公司
          • 品       牌其他品牌
          • 型       號T-ALD
          • 所  在  地北京市
          • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
          • 更新時間2025/4/23 20:16:54
          • 訪問次數(shù)19
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          北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司,原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司,創(chuàng)立于20136月,主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師,具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗。

          公司于2016年初至2017年末,陸續(xù)投入大量研發(fā)資金,針對等離子增強化學(xué)氣象沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺設(shè)備,以及附屬配件進行了系統(tǒng)、深入的研發(fā)、改進工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用,并力爭創(chuàng)造外匯,打出中國創(chuàng)造的品牌!  

          我們的客戶遍布國內(nèi)各高校研究院所、電力試驗所、各級的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!
             您的滿意微笑是我們一直努力追求經(jīng)營目標(biāo)!

          維意真空,為您服務(wù),唯你成就是我們的宣傳口號!

          技術(shù)創(chuàng)新、業(yè)務(wù)專業(yè)、服務(wù)誠信是我們一直遵循的經(jīng)營理念!

          我們熱誠歡迎國內(nèi)外儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備、原子層沉積設(shè)備和高低溫真空探針臺設(shè)備供應(yīng)商。



          磁控濺射鍍膜機,熱蒸發(fā)鍍膜機,光纖真空饋通法蘭,真空電極法蘭,高低溫真空探針臺
          極限真空度 1Pa 樣品臺直徑 6英寸
          前驅(qū)體源 3路 使用溫度 300℃
          維意真空ALD原子層沉積鍍膜機支持定制
          原子層沉積系統(tǒng)是專門為科研和工業(yè)小型化量產(chǎn)用戶而設(shè)計的多片沉積系統(tǒng)。該系統(tǒng)電氣符合CE標(biāo)準(zhǔn),廣泛應(yīng)用于微電子、納米材料、光學(xué)薄膜、太陽能電池等領(lǐng)域。
          維意真空ALD原子層沉積鍍膜機支持定制 產(chǎn)品信息

          維意真空ALD原子層沉積鍍膜機支持定制

          一、設(shè)備概述:

            T-ALD原子層沉積系統(tǒng)是專門為科研和工業(yè)小型化量產(chǎn)用戶而設(shè)計的多片沉積系統(tǒng)。該系統(tǒng)電氣符合CE標(biāo)準(zhǔn),廣泛應(yīng)用于微電子、納米材料、光學(xué)薄膜、太陽能電池等領(lǐng)域。

            二、產(chǎn)品優(yōu)勢:

            軟件控制系統(tǒng):系統(tǒng)集工藝配方、參數(shù)設(shè)置、權(quán)限設(shè)定、互鎖報警、狀態(tài)監(jiān)控等功能于一體。

            三、技術(shù)指標(biāo):

            基片尺寸 12英寸及以下尺寸

            基片加熱溫度 室溫~300℃

            前驅(qū)體源路數(shù) 標(biāo)準(zhǔn)3路前驅(qū)體管路,可選配

            前驅(qū)體管路溫度 室溫~200℃,控制精度±0.1℃

            源瓶加熱溫度 室溫~200℃,控制精度±0.1℃

            ALD閥 Swagelok快速高溫ALD專用閥

            本底真空 <5x10-3Torr,進口防腐泵

            載氣系統(tǒng) N2或者Ar

            長模式 連續(xù)和停留沉積模式任意選擇

            控制系統(tǒng) PLC+觸摸屏或者顯示器

            電源 50-60Hz,220V/20A交流電源

            沉積非均勻性 非均勻性<±1%

            設(shè)備尺寸 600mm x 600mm x 1100mm

            四、可沉積薄膜種類:

            單 質(zhì):Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…

            氮化物:TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …

            氧化物:TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…

            其它化合物:GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…

            五、ALD應(yīng)用實例:

            存儲容性電介質(zhì),銅互連中高深寬比擴散阻擋層,OLED無針孔鈍化層,MEMS的高均勻鍍膜,納米多孔結(jié)構(gòu)鍍膜,特種光纖摻雜,太陽能電池,平板顯示器,光學(xué)薄膜,其它各類特殊結(jié)構(gòu)納米薄膜。

          維意真空ALD原子層沉積鍍膜機支持定制



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