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          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

          參考價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱西安中川光電科技有限公司
          • 品       牌
          • 型       號(hào)
          • 所  在  地西安市
          • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
          • 更新時(shí)間2024/12/5 7:08:11
          • 訪問(wèn)次數(shù)88
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          西安中川光電科技有限公司,成立于2001年,是專門從事光電產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高科技企業(yè)。目前公司擁有自主研發(fā)產(chǎn)品60多個(gè)型號(hào),業(yè)內(nèi)品牌聲譽(yù)良好,具有一批忠實(shí)穩(wěn)定用戶,年產(chǎn)值逾千萬(wàn)。

          公司位于西安*開(kāi)發(fā)區(qū),是國(guó)家光電子成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化基地(西安)的重點(diǎn)企業(yè),是西安機(jī)器視覺(jué)研究發(fā)展中心的核心企業(yè)。

          公司生產(chǎn)的RLK系列光電傳感器與光電檢測(cè)儀器,遵循 ISO9001質(zhì)量管理體系和“6s”現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)已有10年,產(chǎn)品品質(zhì)達(dá)到國(guó)際水平,廣泛應(yīng)用于紡織、冶金、印刷、包裝、等行業(yè),用戶遍及全國(guó)各地,并出口印度、埃及、越南、巴基斯坦、印度尼西亞、孟加拉等各國(guó)。

          公司專注光電成像部件的研發(fā)、生產(chǎn)、OEM與ODM 定制,經(jīng)過(guò)多年的不懈努力與技術(shù)積累,公司研發(fā)、生產(chǎn)的PO系列數(shù)字相機(jī)已經(jīng)有十余個(gè)型號(hào),數(shù)十個(gè)規(guī)格。公司始終注重產(chǎn)品質(zhì)量的控制,建立并通過(guò)GJB9001B質(zhì)量管理體系,在原材料、元器件、工藝、調(diào)試、測(cè)試、檢驗(yàn)、包裝、記錄等全部生產(chǎn)環(huán)節(jié),精益求精,為多個(gè)預(yù)研與型號(hào)任務(wù)提供配套服務(wù)。

          公司宗旨:不斷創(chuàng)新進(jìn)取、促進(jìn)光電技術(shù)應(yīng)用

          經(jīng)營(yíng)管理理念--- “ 專業(yè)、精心、科學(xué)、和諧 ”

          公司愿景--- 專業(yè)的、有影響力的光電企業(yè)

           

          價(jià)值觀:企業(yè)要為社會(huì)和客戶創(chuàng)造價(jià)值   要為股東和員工創(chuàng)造價(jià)值    員工要為企業(yè)和他人創(chuàng)造價(jià)值

          品牌觀:樹(shù)“中川光電”品牌,促企業(yè)發(fā)展

           

          人才觀:人才是公司重要資源,在于發(fā)現(xiàn)、關(guān)心、尊重、培養(yǎng)

          團(tuán)隊(duì)觀:塑造職業(yè)的、和諧的團(tuán)隊(duì),成就企業(yè)

          學(xué)習(xí)觀:學(xué)習(xí)是企業(yè)不斷發(fā)展的基石

          成長(zhǎng)觀:與企業(yè)一起成長(zhǎng)有前途

           

          熱金屬檢測(cè)器,光電糾偏傳感器,機(jī)器視覺(jué)
          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國(guó)際的新型XAFS/XES光譜儀
          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀 產(chǎn)品信息

          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀


          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國(guó)際的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結(jié)構(gòu);采用的、的SBCA晶體,實(shí)現(xiàn)X射線的單色掃描;采用小功率的X-Ray源,使研究試驗(yàn)室內(nèi)就能夠方便運(yùn)行。

          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究,能夠獲得掃描范圍5keV-12keV,分辨率優(yōu)于1eV的譜線。

          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,將信號(hào)探測(cè)、掃描控制、數(shù)據(jù)顯示高度集成化,使用前只需簡(jiǎn)單的參數(shù)設(shè)置、校準(zhǔn)確認(rèn),即可方便進(jìn)行研究試驗(yàn)。

          RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,作為一種目前國(guó)際型的儀器,為各種材料研究分析拓展手段,用戶能夠在實(shí)驗(yàn)室就能隨時(shí)開(kāi)展研究,而不再受到條件限制??蓮V泛應(yīng)用于各種材料研究分析領(lǐng)域,包括納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等。將成為材料研究必選設(shè)備。

          產(chǎn)品特點(diǎn)(Features)

          新原理新構(gòu)造:居于新原理和新構(gòu)造的X-ray光譜儀;

          高分辨率:    采用的、的SBCA晶體作為核心器件,實(shí)現(xiàn)X射線單色掃描,分辨率達(dá)到1eV;

          高品質(zhì)能譜曲線:與同步輻射相當(dāng)品質(zhì)的能譜曲線;

          試驗(yàn)室儀器:  在試驗(yàn)室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到條件限制;

          高集成性:    儀器集成探測(cè)、控制、分析,軟件運(yùn)行于Windows操作系統(tǒng);

          應(yīng)用面廣:    納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產(chǎn)分析等各種材料研

          究分析領(lǐng)域

          技術(shù)指標(biāo)(Specification)

          型號(hào)Model

          RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀

          原理Principle

          SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描

          能量范圍

          Energy Range

          5KeV-12KeV

          能量分辨率

          Energy Resolution

          0.5-1.5eV

          工作模式

          Working Mode

          XAS/XES

          布拉格角范圍

          Bragg Angle Range

          65°-85°

          X射線源

          X-ray Tube

          10W(Max)50KV@200uA(X 光點(diǎn)直徑~0.5mm)

          光學(xué)系統(tǒng)

          Optics System

          SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Roland 直徑500mm)

          探測(cè)器Detector

          半導(dǎo)體電制冷SDD

          通訊接口

          Communication  interface

          RS-232

          工作電壓

          Power Supply

          220VAC

          工作溫度

          Temperature

          -10℃  ~ +50

          外形尺寸Dimension

          1200(L)*1200(W)*1100(H)

          重量Weight

          350Kg

          軟件Software

          RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7)

           

           




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