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          小型高溫蒸鍍儀

          參考價38600.00
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
          • 品       牌鄭科探
          • 型       號KT--Z1650C
          • 所  在  地鄭州市
          • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
          • 更新時間2024/9/12 10:12:02
          • 訪問次數(shù)114
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          38600.00元66 臺可售
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          鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售為一體的新材料制備設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)眾多實驗室,科探儀器已經(jīng)成為老師和同學(xué)信賴的品牌。公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會為宗旨,積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育實驗和科學(xué)研究。經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷的技術(shù)積累,擁有材料制備、材料測試、材料運(yùn)用等,相關(guān)技術(shù)10余項,為化學(xué)、物理、材料、電子等方面;新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)工作者們提供了精良的設(shè)備。公司通過和院校老師、同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了高效的信息技術(shù)交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強(qiáng)有力的支持!

          目前公司已研發(fā)生產(chǎn)科研儀器十多個系列,上百款產(chǎn)品,包括實驗電爐、高真空機(jī)組、智能供氣儀、二維材料制備CVD設(shè)備、等離子清洗機(jī)、小型磁控濺射儀、小型蒸鍍儀、石英管真空封口機(jī)、真空探針臺、燃料電池評價裝置等。主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源領(lǐng)域,物理特性及化學(xué)特性的研究,廣泛應(yīng)用于各大院校及材料研究所。

          公司與國內(nèi)高校、科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實驗室相關(guān)領(lǐng)域的教授、工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)、我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠長期實踐的技術(shù)經(jīng)驗和嚴(yán)謹(jǐn)?shù)难邪l(fā)能力、科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝、精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心,期待與您的合作!


          實驗電爐,高真空機(jī)組,智能供氣儀,等離子清洗機(jī),小型磁控濺射儀,小型蒸鍍儀,石英管真空封口機(jī),真空探針臺。
          小型高溫蒸鍍儀:KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓,電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié)及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。
          小型高溫蒸鍍儀 產(chǎn)品信息

          小型高溫蒸鍍儀是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動樣品擋板,靶臺旋轉(zhuǎn),觸摸屏多段控制,工藝儲存等功能。

          空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程:

          1)加熱蒸發(fā)過程:包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程,每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。(2)氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸,即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

          3)蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā),凝聚,成核,核生長,形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度,因此,氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。

           

          編輯

          以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

           

          原樣品沒有鍍膜

           

          115A 100秒 機(jī)械泵

           

          115A 100秒 分子泵抽12分鐘

           

          115A 120秒 分子泵抽20分鐘

          真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

          小型高溫蒸鍍儀技術(shù)參數(shù):

          控制方式

          7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制

          加熱方式

          數(shù)字式功率調(diào)整器

          鍍膜功能

          0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

          功率

          ≤1200W

          輸出電壓電流

          電壓≤12V 電流≤120A

          真空度

          機(jī)械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

          擋板類型

          電控

          真空腔室

          石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

          樣品臺

          可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)

          樣品臺轉(zhuǎn)速

          8轉(zhuǎn)/分鐘

          樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

          70-140mm

          蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

          ≤1800℃

          支持蒸發(fā)坩堝類型

          鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩

          預(yù)留真空接口

          KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口

          可選配擴(kuò)展

          機(jī)械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa

          數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

          分子泵機(jī)組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa


          關(guān)鍵詞:觸摸屏 人機(jī)界面
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