石英管式微波等離子體裝置是我廠專門為大學和研究機構(gòu)設(shè)計的小型化產(chǎn)品，可用于薄膜材料的

制備和等離子體物理等方面的研究工作，并且特別適宜于大中專學校的材料、化學工程與工藝、物理

等專業(yè)的學生實驗。該裝置利用微波能激勵稀薄氣體放電在石英管中產(chǎn)生穩(wěn)態(tài)等離子體，通過通入不

同的工作氣體，可進行功能薄膜材料的制備、化學合成、表面刻蝕、等離子體診斷等多方面的實驗。

一、FM-CVD 石英管式微波等離子體裝置主要配置

   1. 2.45GHz，0~500W微波功率連續(xù)可調(diào)，可滿足不同實驗的要求；
   2. ф50mm的石英管真空室，帶有一個觀察窗和一個診斷窗口，保證各

種實驗方便進行；
   3. 石英管采用水冷卻，可保證裝置在高功率條件下安全運行；
   4. 配置了3路氣體管路，氣體流量控制方便；
     真空測量系統(tǒng)及控制閥門可保證真空室所需的真空環(huán)境。

二、典型實驗
    1. 等離子體化學氣相沉積
       A（氣）+B（氣）→ C（固）+D（氣）
     反應(yīng)氣體A、B被激發(fā)為等離子體狀態(tài)， 其活性基團發(fā)生反應(yīng)生成所需要的固態(tài)物沉積在基片上，可廣泛用于薄膜或納米材料的合成。如金剛石薄膜氮化碳薄膜、碳納米材料等。
    2. 等離子體表面刻蝕
      A（氣）+B（固）→ C（氣）
     反應(yīng)氣體A 被激發(fā)為等離子體狀態(tài)與固體B表面原子發(fā)生反應(yīng)生成氣態(tài)物C，可用于集成電路的刻蝕實驗。
    3. 等離子體催化反應(yīng)
     利用等離子體中豐富的活性成分，如紫外和可見光子、電子、離子、自由基；高反應(yīng)性的中性成分，如活性原子，受激原子態(tài)，從而引發(fā)在常規(guī)化學反應(yīng)中不能或很難實現(xiàn)的化學反應(yīng)。
    4. 等離子體表面改性
      A（氣）+B（固）→ C（固）
     反應(yīng)氣體A 被激發(fā)為等離子體狀態(tài)與固體B表面發(fā)生反應(yīng)生成新的化合物從而達到改變B物質(zhì)表面性質(zhì)的目的?？蓮V泛用于高分子材料、金屬材料及生物材料的表面改性實驗。