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UNIPOL-1203化學(xué)機(jī)械磨拋機(jī)，適用于CMP平坦化和平滑化工藝技術(shù)， 整機(jī)研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕，配置自動(dòng)滴料器和精密磨拋控制儀，全自動(dòng)觸摸屏板，從加工性能和速度上同時(shí)滿足晶圓等面型加工的需求。1、超平不銹鋼拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。
2、超精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）。
3、設(shè)有兩個(gè)加工工位，可分別進(jìn)行控制。
4、配有全自動(dòng)控制觸摸屏面板，可設(shè)置主軸轉(zhuǎn)速、擺臂速度、磨拋時(shí)間。
5、配置自動(dòng)滴料器，流量速率可視化調(diào)整，自動(dòng)研磨和拋光。
6、配置GPC-100A精密磨拋控制儀，可調(diào)節(jié)壓力，修整面型，使磨拋更加方便快捷。
7、研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕。
| 產(chǎn)品名稱 | UNIPOL-1203化學(xué)機(jī)械磨拋機(jī) | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | UNIPOL-1203 | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無 4、工作臺(tái)：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要 | |
| 主要參數(shù) | 主機(jī)部分 | |
| 1、電源:220V 2、功率:450W 3、磨拋盤轉(zhuǎn)速:10-240rpm 4、磨拋工位:2個(gè) 5、擺臂調(diào)節(jié)檔位:1-15檔 6、托盤端跳:0.008/250mm 7、不銹鋼磨拋盤:φ300mm 8、載樣盤:φ105mm 9、修盤環(huán):φ127.5mm | ||
| GPC-100A精密磨拋控制儀 | ||
| 1、載樣盤直徑：?103mm 2、載樣盤軸向行程：12mm 3、數(shù)顯表精度：0.001mm 4、載樣盤可調(diào)加載壓力： 0.1kg-2.1kg 5、壓力確認(rèn)儀有效量程：1g-5000g 6、樣品裝卡方式：真空吸附 7、承載樣件尺寸：直徑≤103mm、 厚度≤12mm 8、尺寸：外徑146mm，高266mm | ||
| 自動(dòng)滴料器 | ||
| SKZD-2滾筒滴料器 1、容積：1.5L 2、流量：0-35ml/min 3、尺寸：170×290×350mm； 重量：3kg SKZD-4自動(dòng)滴料器 1、加液泵：4個(gè) 2、料液瓶：600ml/瓶 3、計(jì)時(shí)范圍：1-999min 4、流量：0.1ml/min-10ml/min 5、尺寸：230×370×450mm； 重量：10kg | ||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 1、外形尺寸:550mm×700mm×420mm | |
| 序號(hào) | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片 |
| 1 | 鑄鐵磨盤（Ф300mm花盤） | 1個(gè) | |
| 2 | 不銹鋼磨盤（Ф300mm平盤） | 1個(gè) | |
| 3 | 載物盤（陶瓷） | 1個(gè) | |
| 4 | 修盤環(huán)（陶瓷） | 1個(gè) | |
| 5 | 拋光墊 （磨砂革、合成革、聚氨酯） | 各1片 | |
| 6 | 磁力片（帶背膠） | 2片 | |
| 7 | 研拋底片 | 2片 | |
| 8 | 剛玉研磨微粉 | 0.5kg | |
| 9 | 石蠟棒 | 4根 | |
| 10 | 二氧化硅懸浮拋光液 2040 W0.05 | 1瓶 |
| 序號(hào) | 名稱 | 功能類別 | 圖片 |
| 1 | YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 | （可選） | |
| 2 | 精密測厚儀 | （可選） | |
| 3 | 陶瓷研磨盤 | （可選） | |
| 4 | 玻璃研磨盤 | （可選） | |
| 5 | 磁性樹脂金剛石研磨片 | （可選） |
