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          Table PVD-10 磁控濺射系統(tǒng)

          參考價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱杭州大華儀器制造有限公司
          • 品       牌
          • 型       號(hào)
          • 所  在  地杭州市
          • 廠商性質(zhì)其他
          • 更新時(shí)間2024/4/26 19:58:27
          • 訪問(wèn)次數(shù)250
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          杭州大華儀器制造有限公司坐落于杭州市富陽(yáng)區(qū)美麗的富春江畔、《富春山居圖》 的實(shí)景地、誕生地、經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)-----東洲工業(yè)功能區(qū)內(nèi),處在國(guó)家黃金旅游線”錢塘江- 富春江千島湖-黃山”的中心位置。公司始創(chuàng)于1993年,廠區(qū)建筑面積35000多平方米,是一家倡導(dǎo)服務(wù),集科研、生產(chǎn)、銷售于-體的國(guó)家重點(diǎn)扶持企業(yè)。二十多年來(lái)-直致力于大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)教學(xué)儀器、科研儀器設(shè)備的研發(fā)生產(chǎn)和銷售,形成了以8大系列400余種專業(yè)物理實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備為主,電工儀器為輔,配套設(shè)備為支撐的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)。2010年,公司研發(fā)中心被評(píng)為以“科教儀器為主要研究方向”的省級(jí)企業(yè)研發(fā)中心,2016年被杭州授予“杭州市院士工作站”。2017年,被省委認(rèn)定為“省級(jí)院士工作站”。公司以“科技締造未來(lái)”為企業(yè)理念,重視科技創(chuàng)新和產(chǎn)學(xué)研合作、重視人才的引進(jìn)與培養(yǎng),2000年以來(lái)與中科院固體物理研究所、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、華中科技大學(xué)、四川大學(xué)、天津師范大學(xué)、西安交通大學(xué)、西北工業(yè)大學(xué)、武漢工程大學(xué)等20多家高等院校和科研院所建立了穩(wěn)定的產(chǎn)學(xué)研合作關(guān)系、大學(xué)生實(shí)踐基地,在功能材料科教儀器設(shè)備及測(cè)試技術(shù)、等離子體技術(shù)應(yīng)用、大學(xué)物理設(shè)計(jì)創(chuàng)新、新能源產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域開(kāi)展了廣泛的科技創(chuàng)新合作。公司累計(jì)獲得國(guó)家100余項(xiàng),在全國(guó)高校物理實(shí)驗(yàn)儀器評(píng)比中,共獲得四項(xiàng)-等獎(jiǎng),十二項(xiàng)二等獎(jiǎng),十五項(xiàng)三等獎(jiǎng)的榮譽(yù)。并相繼獲得了“ 全國(guó)名優(yōu)產(chǎn)品售后服務(wù)*單位”、“ 中國(guó)質(zhì)量信用AA單位”、“ 浙江省示范企業(yè)”、“ 浙江省民營(yíng)經(jīng)濟(jì)示范企業(yè)”、、“杭州” 等榮譽(yù)稱號(hào),連續(xù)多年列入“中國(guó)高教儀器設(shè)備發(fā)展情況年度報(bào)告”設(shè)備選購(gòu)?fù)扑]企業(yè)之一, 國(guó)歡迎的實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備企業(yè)之一。以“用戶至上,服務(wù)滿意,質(zhì)量為本,科學(xué)管理”為企業(yè)宗旨, 嚴(yán)格執(zhí)行"IS09001: 2015國(guó)際質(zhì)量管理體系” 的標(biāo)準(zhǔn),導(dǎo)入3Q6S精細(xì)化管理模式,注重- -切流程以用戶滿意為標(biāo)準(zhǔn), 精益求精,持續(xù)提高產(chǎn)品的品質(zhì)。我們的服務(wù)和產(chǎn)品現(xiàn)已遍布國(guó)內(nèi)外兩千余所大專院校、科研院所和工業(yè)企業(yè),并出口美國(guó)、法國(guó)、東南亞、中東、古巴等國(guó)家和地區(qū)。
          實(shí)驗(yàn)裝置
          應(yīng)用領(lǐng)域:本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng),該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源,可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如:ITO)等;廣泛應(yīng)用于科研院所、實(shí)驗(yàn)室制備單層或多層薄膜,以及新材料、新工藝研究
          Table PVD-10 磁控濺射系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

          應(yīng)用領(lǐng)域:

          本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng),該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源,可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜 ( 如:ITO) 等;廣泛應(yīng)用于科研院所、實(shí)驗(yàn)室制備單層或多層薄膜,以及新材料、新工藝研究。 本裝置系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊,系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)可擴(kuò)展性高,在保證系統(tǒng)穩(wěn)定性的前提下,進(jìn)一步優(yōu)化您的實(shí)驗(yàn)室利用空間;適合擺放于工作臺(tái)面上。

          Table PVD-10 磁控濺射系統(tǒng).jpg

          基本配置:

          真空腔室:Φ250 mm(ID) x 250 mm(H) 

          真空系統(tǒng):機(jī)械泵 + 分子泵兩級(jí)真空系統(tǒng) 前級(jí)泵:VRD-16 機(jī)械泵,抽速:4L/S ;主抽泵:分子泵,抽氣速率:300L/S 主抽閥:CC-100 超高真空手動(dòng)插板閥, 可調(diào)節(jié)分子泵抽速,有利于穩(wěn)定工藝氣壓。 

          極限真空:<5×10-5Pa 

          恢復(fù)真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

          真空測(cè)量:兩低一高數(shù)顯復(fù)合真空計(jì) 

          源:最多 2×2 英寸磁控靶 

          濺射電源:直流 (500W ) 一臺(tái)(標(biāo)配) 

          進(jìn)氣系統(tǒng):一路 MFC 控制的工藝氣路(Ar 

          樣品臺(tái):可容納樣品尺寸:3 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào)樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -300,控溫精度 ±0.5 

          系統(tǒng)控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控制

          選擇配置:

          樣品臺(tái)可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

          全量程真空計(jì)( Inficon 

          電容式隔膜真空計(jì) ( 測(cè)量濺射工作壓力

          射頻電源(RF300W(可選) 

           系統(tǒng)要求標(biāo)準(zhǔn)配置: 

          工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

          工藝氣體(Ar 工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮?dú)?/span> 

          : 單相 220V , 50Hz, 16A 

            :18-25 , 1L/min,壓力 < 0.4MPa


          關(guān)鍵詞:觸摸屏
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