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BG-501曝光機

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面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱三河建華高科有限責任公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時間2023/7/9 19:08:29
訪問次數(shù)294

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公司介紹主營產(chǎn)品

三河建華高科有限責任公司成立于2003年6月13日，是隸屬公司地四十五研究所的國有控股公司。公司地處北京東燕郊經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)海油大街253號，占地100畝；公司現(xiàn)有總資產(chǎn)1.668億元，資產(chǎn)負債率0.4%，銀行信用等級AA+。三河建華高科有限責任公司以打造“中國半導體制造設(shè)備的者”為目標，致力于半導體元器件材料加工和芯片制造及檢測專用設(shè)備的研究開發(fā)與生產(chǎn)制造，傾力建設(shè)華北地區(qū)高精密機械、光學、電氣零部件制造中心。公司現(xiàn)有職工230余人，其中各類技術(shù)人員60余人，高級技術(shù)職稱30余人，高級技能以上人才70余人。先后榮獲了國家科技型中小企業(yè)、河北省企業(yè)、科技小巨人、工業(yè)企業(yè)研發(fā)機構(gòu)、廊坊市研發(fā)平臺、廊坊市企業(yè)技術(shù)中心、廊坊市專用設(shè)備及精密零部件制造研發(fā)中心等多項榮譽。經(jīng)過多年的科學運作和生產(chǎn)經(jīng)營，公司規(guī)模逐步壯大，每年的銷售收入呈逐年增長的態(tài)勢，公司固定資產(chǎn)處于增值的良好狀態(tài)。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光

BG-501曝光機產(chǎn)品信息

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產(chǎn)品操作方便、穩(wěn)定性高、重復性好，并具有較高的性能價格比，可廣泛應用于科研和生產(chǎn)。

主要技術(shù)特點

對準工作臺

對準精度搞，漂移小，精密楔形誤差補償機構(gòu)實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命。

曝光系統(tǒng)

采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學件，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。

分離視場顯微鏡

顯微鏡像質(zhì)清晰，觀察舒適。

控制系統(tǒng)

電氣控制采用可編程序控制器（PLC）、LCD顯示器，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進口或?qū)I(yè)廠家制造，氣動元件采用SMC產(chǎn)品，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性，同時提供個性化服務。

主要技術(shù)指標

性能名稱			技術(shù)指標
適用基片尺寸			Max. φ5″（φ125mm）
適用掩模版尺寸			Max. 6″（150mm×150mm）
工作臺行程		Ｘ向	±5mm
		Y向	±5mm
		Z向	3mm
		θ向	±5°
基片與掩模版分離間隙			0～0.05mm
對準精度			±1μm
顯微鏡	物鏡放大率		0.75×～5×
	總放大倍數(shù)		40×～300×
	物鏡分離距離		50～120mm
	掃描范圍		50mm×50mm
	調(diào)焦范圍		8mm
曝光光源			365nm，500W進口汞燈
曝光面積			φ160mm
曝光分辨率			1.5um（正膠、真空接觸）
光強			≥20mW/cm²
曝光不均勻性			±5%
曝光時間			0～999s
外型尺寸			1300mm×1100mm×1650mm
重量			300Kg