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          科探實驗室小型濺射儀

          參考價 39800
          訂貨量 ≥1
          具體成交價以合同協(xié)議為準
          • 公司名稱鄭州科探儀器設備有限公司
          • 品       牌其他品牌
          • 型       號KT-Z1650PV
          • 所  在  地鄭州市
          • 廠商性質生產廠家
          • 更新時間2023/5/26 15:29:33
          • 訪問次數207
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          鄭州科探儀器設備有限公司是集開發(fā)、制造、經營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及*校,科探儀器已經成為老師 同學歡迎和信任的品牌之一

          公司以科技創(chuàng)新為主,服務社會為宗旨,積極設計開發(fā)新型材料制備設備,奉獻于教育和科學,經過長期的研發(fā)和不斷地技術積累,擁有熱工,制造,控制相關技術10余項,為化學,物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯合,形成了有效的信息,技術交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。

          目前公司已研發(fā)生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

          公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴謹的技術研發(fā)能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。




          真空探針臺,濺射儀,蒸鍍儀,真空泵
          科探實驗室小型濺射儀 是一種利用濺射技術制備薄膜的設備,主要用于制備和研究金屬、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。
          它通常由四個主要組件組成:真空室、濺射槍、靶材和控制系統(tǒng)。真空室是封閉的金屬或玻璃盒子,用于維持真空環(huán)境,以避免雜質和氣體干擾制備過程。濺射槍是用于向靶材表面發(fā)射離子的設備,它可以控制濺射速率和角度,從而控制薄膜的厚度和均勻性。靶材是被準備薄膜所需的原材料。
          科探實驗室小型濺射儀 產品信息

          鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設計者和制造商,客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設計以滿足客戶的特殊要求。

            鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

          儀器描述:

          科探實驗室小型濺射儀 ,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。


             產品特點:

              彩色觸摸屏:數據輸入簡單快速

             • 通過觸摸屏中直觀檢測數據和曲線;歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

             • 可控鍍膜速率,可得到更精細的晶粒結構

             • 可手動或自動,根據時間或根據厚度進行濺射

          • 樣品臺更換簡單:標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉;行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

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          科探實驗室小型濺射儀技術參數;

          控制方式

          7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

          濺射電源

          直流濺射電源

          鍍膜功能

          0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

          功率

          ≤1000W

          輸出電壓電流

          電壓≤1000V  電流≤1A

          真空

          機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

          濺射真空

          ≤30Pa

          擋板類型

          電控

          真空腔室

          石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

          樣品臺

          可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

          樣品臺轉速

          8轉/分鐘

          樣品濺射源調節(jié)距離

          40-105mm

          真空測量

          皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

          預留真空接口

          KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口









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