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          回收二手OBLF光譜儀

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          • 公司名稱上?;盖騼x器設備有限公司
          • 品       牌
          • 型       號
          • 所  在  地上海市
          • 廠商性質其他
          • 更新時間2023/4/19 9:14:47
          • 訪問次數210
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          上?;盖騼x器設備有限公司專業(yè)提供從基礎型到專業(yè)化的實驗室解決方案,多年來堅持服務于國內分析領域,為各級實驗室提供世界*品質的檢測儀器,并以專業(yè)、全面的技術支持和售后服務贏得了良好聲譽,是國內具有實力的實驗室基礎儀器集成供應商,擁有廣泛而穩(wěn)固的客戶群體和分銷網絡。 桓球儀器總部設在上海浦東,并在杭州、南京、武漢等地設有聯(lián)絡處,業(yè)務覆蓋34個省市自治區(qū)。公司廣泛服務于我國國民經濟的眾多領域,如質檢機構、科研院所、大專院校、冶金及金屬加工、機械制造、石油化工、塑料橡膠、電線電纜、紡織纖維、食品及包裝等行業(yè),產品涵蓋計量儀器、實驗室通用儀器、化學分析、物性測試、生化測試、無損檢測等。公司還與國內外制造商緊密合作,因此提供的產品匯集國內外優(yōu)秀行業(yè)人士精心研究、開發(fā)制造,在科學管理的基礎上,嚴格按ISO質量標準,控制產品質量,提供本地化的技術支持和服務,使得桓球成為廣大客戶理想的供應商。 公司目前擁有十多個歐、美、日、國內品牌,產品資源豐富,種類齊全。品牌包括有Thermo Fisher、Zeiss 、Olympus、Hexagon、Spectro、Mitutoyo、Taylor Hobson、Mahr、Agilent、Shimadzu、Perkinelme、Bruker 、Analytik Jena、Metrohm等國內外的一級代理權。 “桓球儀器,見證成長”是我們的企業(yè)宗旨和共同愿景,“品質服務,一直”這句口號將推動我們追求更高的目標。我們的團隊在技術及客戶服務方面積累了豐富的經驗,我們始終努力去做正確的事,誠實正直,坦率待人。我們的業(yè)務運作恪守法律的文字規(guī)定和內涵精神,以此在商業(yè)活動上取得成功和贏得尊重。 我們深信:擁有比以往任何時候更多的人才、技術和實力,并提供完善的售后服務、持久的穩(wěn)定性、更大的可信度和更豐富經驗的技術支持,深知客戶的需求,并幫助客戶成功,我們才能成功!
          德國OBLF公司成立于1975年,是專門致力于直讀光譜儀的研究和生產的公司.公司的宗旨是"生產比較好品質的光譜儀".OBLFGS1000-II型儀器為通用單基體火花直讀光譜儀,可對固體金屬材料作快速成分分析,可進行氮及固溶物分析,多可達32個分析通道
          回收二手OBLF光譜儀 產品信息

          OBLF.jpg

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          OBLF-GS1000光譜儀1.jpg

          德國OBLF公司成立于1975年,是專門致力于直讀光譜儀的研究和生產的公司.公司的宗旨是"生產比較好品質的光譜儀".
          OBLF GS1000-II型儀器為通用單基體火花直讀光譜儀,可對固體金屬材料作快速成分分析,可進行氮及固溶物分析,多可達32個分析通道。

          光學系統(tǒng)采用PMT檢測器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。

          儀器裝備有氬氣沖洗火花臺,開放式設計火花臺,適合不同形狀和尺寸的樣品分析。

          該儀器可靠性好,穩(wěn)定性高,堅固耐用,分析速度快,是一款性價比的爐前快速分析儀器。

          技術參數:

          1.光學系統(tǒng)的焦距500mm,光柵刻線數依據用戶分析要求而定
          2.光室采用真空保護,真空泵運轉周期小于5%
          3.火花放電頻率比較高為1000赫茲,分析一個鋼鐵樣品為15秒
          4.操作溫度:12--35℃
          5.WINDOWS 操作系統(tǒng)
          6.長600mm x 寬 1050mm x 高1210mm
          7.重量:300kg

          主要特點:

          1.免維護的激發(fā)光源采用了全新的GDS(Gated discharge source脈沖放電光源)技術、全固態(tài)電路、無輔助電極,比較高可達1000赫茲激發(fā)頻率的光源,一次樣品分析約需15秒鐘。
          2.由計算機控制真空泵的開啟,真空泵的開啟時間小于儀器全部運行時間的5%,極大地提高了泵的使用壽命。
          3.光學器件、積分板及控制電路均置于真空光室中。在真空氣氛的保護下,可不受外界環(huán)境變化的影響,重現性及長期穩(wěn)定性比較好。
          4.激發(fā)弧焰由透鏡直接導入真空光室,消除光路損耗,保持數據的長期穩(wěn)定性。
          5.的自清潔開放式激發(fā)臺,沒有靜態(tài)氬,在等待樣品分析時可以不用氬氣保護,較大程度的減少了氬氣的消耗量。

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