學(xué)校實(shí)驗(yàn)室光刻膠清洗機(jī) 等離子活化 蝕刻

等離子體清洗的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

學(xué)校實(shí)驗(yàn)室光刻膠清洗機(jī) 等離子活化 蝕刻

   鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營(yíng)為一體的材料設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè)，如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及科學(xué)高校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)和信任的品牌。 

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