與專用的 GCM 氣體控制模塊（申請(qǐng)中）結(jié)合使用，為各種基于細(xì)胞的研究提供綜合解決方案。GCM 氣體控制模塊中兩個(gè)獨(dú)立的氣體通道設(shè)計(jì)，能夠自動(dòng)調(diào)節(jié)檢測(cè)腔室內(nèi) CO2 和 O2 濃度，可以長(zhǎng)時(shí)間維持穩(wěn)定的培養(yǎng)環(huán)境，使實(shí)驗(yàn)在厭氧或生理?xiàng)l件下均能順利完成。維持檢測(cè)腔室內(nèi)佳的 CO2 濃度有利于穩(wěn)定pH值和培養(yǎng)基的環(huán)境。并且，獨(dú)立控制 O2 的濃度（通過使用氮?dú)鈦?lái)降低氧氣濃度）可以獲得低氧條件或模擬體外生長(zhǎng)環(huán)境。的 GCM 氣體控制模塊與精確溫控模塊、高效振蕩功能聯(lián)合使用，更能滿足細(xì)胞學(xué)研究的苛刻需求。此外，由于提高了實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的連續(xù)性，實(shí)驗(yàn)重復(fù)次數(shù)大大減少，實(shí)驗(yàn)結(jié)果比手工操作具有更佳的*性和可靠性。

Tecan 令人印象深刻的 GCM 氣體控制模塊能夠優(yōu)化酶標(biāo)儀內(nèi)氣體的混合比例，從而為哺乳動(dòng)物細(xì)胞分析、缺氧性分析、細(xì)胞活性研究、免疫分析、缺血或再灌注研究等提供*的實(shí)驗(yàn)解決方案。

技術(shù)參數(shù)

光源 UV 高能閃爍氙燈

波長(zhǎng)選擇
帶寬: Ex: < 5 nm for λ ≤ 315 nm and < 9 nm for λ > 315 nm;
Em: < 20 nm
* Infinite M200 PRO: Quad4 四光柵系統(tǒng)（雙激發(fā)光柵，雙發(fā)射光柵）
光吸收
波長(zhǎng)準(zhǔn)確性: < ± 0,5 nm for λ > 315 nm; < ± 0.3 nm for λ ≤ 315 nm
波長(zhǎng)重復(fù)性: < ± 0,5 nm for λ > 315 nm; < ± 0.3 nm for λ ≤ 315 nm
熒光
波長(zhǎng)準(zhǔn)確性: < ± 2 nm for λ > 315 nm; < ± 1 nm for λ ≤ 315 nm
波長(zhǎng)重復(fù)性: < ± 1 nm for λ > 315 nm; < ± 0.5 nm for λ ≤ 315 nm

波長(zhǎng)范圍
熒光強(qiáng)度: 標(biāo)準(zhǔn)型: Ex 230 – 600 nm, Em 330 – 600 nm
增強(qiáng)型: Ex 230 – 850 nm, Em 280 – 850 nm
熒光偏振: 標(biāo)準(zhǔn)型: Ex 300 – 600 nm; Em 330 – 600 nm
增強(qiáng)型: Em 330 – 850 nm
光 吸 收: 230 – 1000 nm

檢測(cè)器: 光吸收 – 紫外硅光電二極管
熒 光 – 光電倍增管（PMT），可選紫外和紅光靈敏
*發(fā) 光 – 低暗電流單光子計(jì)數(shù)光電倍增管
板 型: 6 - 384孔板，比色杯及微量檢測(cè)板
溫度控制: 室溫 +5 °C 至 42 °C
振板方式: 線性及環(huán)性
氣體控制模塊:CO2濃度范圍: 0-10%; O2濃度f(wàn)范圍:0.5-21%;可實(shí)現(xiàn)O2置換;

熒光靈敏度
熒光頂部閱讀: 170 amol / 孔 （1.7 pM; 384孔板）
熒光底部閱讀: 1.2 fmol / 孔 （6 pM; 96孔板）
時(shí)間分辨熒光: 90 amol / 孔 （0.9 pM; 384孔板）
熒光偏振: N / A

發(fā)光靈敏度 標(biāo)準(zhǔn)型
連續(xù)發(fā)光: 225 amol ATP / 孔 （9 pM; low volume 384孔板）
瞬時(shí)發(fā)光: 12 amol ATP / 孔 （218 fM; 384孔板）

光吸收
260 / 280 nm 比值精度：± 0,07；260 nm 精確度：< 0.2 %；260 nm 準(zhǔn)確度: < 0.5 %
檢測(cè)范圍 0–4 OD
加樣器
*加樣泵速度：100 – 300 μl / 秒
*加樣體積：大 800 μl （1 μl 步進(jìn)）,死體積：100 μl （采用回流功能）
* 快讀板速度: 96 孔板：20 秒; 384 孔板：30 秒
波長(zhǎng)激發(fā)及發(fā)射掃描（96孔板/450-550nm/5nm步進(jìn)） 150 秒