UV-PLUS光學系統(tǒng)：

   SPECTROLAB的光學系統(tǒng)集合了兩種檢測器的優(yōu)勢：光電倍增管和CCD檢測器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構，光學系統(tǒng)的機械結構異常堅固，同時減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS技術用于保障遠紫外光譜范圍的測量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氬氣，保證遠紫外光譜的透過率。光室內(nèi)的氬氣由分子薄膜泵驅(qū)動循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氬氣的高純度。
    UV-PLUS光學系統(tǒng)是純凈的，同時具有杰出的長期穩(wěn)定性。系統(tǒng)在120-180nm波段透光效率，運行成本很低。
   的光學系統(tǒng)設計與UV-PLUS概念相結合，M12能夠同時以高達9pm的光譜分辨率記錄120-800nm波段的全部一級光譜圖。這一核心技術奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基礎。

等離子發(fā)生器光源：
   一代等離子發(fā)生器是至今的激發(fā)光源。超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字信號發(fā)生配合全數(shù)字能量輸出，確保激發(fā)區(qū)等離子體能量超高分辨率和高保真輸出。 在標準分析應用中18秒內(nèi)可以獲得分析數(shù)據(jù)，提高了樣品輸出量和過程控制效率。

火花臺：
   M12的火花臺直接將激發(fā)光導入光學系統(tǒng)?；鸹ㄅ_內(nèi)部體積進一步縮小，優(yōu)化氬氣流
向設計使得氬氣消耗更低，同時有效移除殘留粉塵。尾氣經(jīng)兩級過濾系統(tǒng)排出?；鸹ㄅ_工作維護量極低。壓桿可以左右移動，接駁安全電路。可以快速更換樣品。
   適用分析大尺寸異型樣品。特殊設計的樣品夾可用于分析棒材、線材和薄片。小樣品專用分析程序提高了 分析精度和準確性。

分析測試：

   斯派克火花光譜儀M12的精致設計使用日常維護和校工作量降到，儀器操作變得非常簡單。日常分析按一個鍵就可以完成。配合自動制樣設備，可以實現(xiàn)全自動大樣品量輸出。集成于Spark Analyzer Vision 軟件包的硬件診斷系統(tǒng)，實時監(jiān)控和存檔儀器的運行狀態(tài)。對于儀器參數(shù)設置，數(shù)據(jù)管理，聯(lián)網(wǎng)傳輸，打印和材料牌號判定等功能，軟件設計了簡單直觀，易懂的操作界面。SQL數(shù)據(jù)庫格式是數(shù)據(jù)管理軟件的基礎。
   基于用戶的分析需求，儀器可以定制成十種標準基體的任意組合。
   CCD光學系統(tǒng)可以自由選擇120-800nm范圍內(nèi)的任意譜線用于分析線或參比線。光電管光學系統(tǒng)最多可設置108個高性能光電倍增管。每個光電管通道都有是一個微積分器，具有TRS（時間分解光譜技術）分析痕量元素和SSE（單火花評估技術）分析元素相態(tài)。事實上，所有分析要求都可以在M12中無折衷地實現(xiàn)。
   配備最現(xiàn)代光譜技術和高質(zhì)量的元器件，SPECTROLABM12設計應用于解決各種分析要求。憑借其杰出的性能表現(xiàn)和靈活性，適用于過程控制，質(zhì)量監(jiān)控，材料牌號判定，材料研究和開發(fā)，以及金屬冶煉，加工和回收工業(yè)中的各種分析應用。