日立MC1000離子濺射儀是由日立*公司自行設(shè)計制造，針對掃描電鏡的精細需求而設(shè)計，適合微觀結(jié)構(gòu)較復雜的樣品，尤其適合于場發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測應(yīng)用。

主要特點：
1. 操作方便且有記憶功能，LCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲五種處理方案；
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過選配測量單元可實現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。
 
應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現(xiàn)不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。