ETD-900型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。特點：配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)；濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得鍍膜效果；特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩崩邊現象；根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。