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高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

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公司名稱鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司
品牌
型號(hào)PC-003
所在地深圳市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2022/8/19 17:14:30
訪問(wèn)次數(shù)618

產(chǎn)品標(biāo)簽:

高真空鍍膜機(jī)物理氣相沉積（PVD）電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一體化高真空鍍膜機(jī)高真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)商

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司，由哈爾濱工業(yè)大學(xué)（深圳）與有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿與市場(chǎng)前沿的交叉點(diǎn)，尋求創(chuàng)新YIN/LING與可持續(xù)發(fā)展，解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國(guó)產(chǎn)化難題，爭(zhēng)取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。

公司核心業(yè)務(wù)是微納技術(shù)與gao/duan精密制造，具體應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體工藝和半導(dǎo)體裝備的研發(fā)設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造。

公司人才團(tuán)隊(duì)知識(shí)結(jié)構(gòu)完整，有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì)；還有來(lái)自工業(yè)界的高級(jí)裝備設(shè)計(jì)師團(tuán)隊(duì)，他們具有20多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗(yàn)。

公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)（深圳），具備*的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺(tái)和檢測(cè)設(shè)備平臺(tái)，可以在高起點(diǎn)開展科研工作。公司總部位于深圳市，具備半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及半導(dǎo)體材料與器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。

團(tuán)隊(duì)部分業(yè)績(jī)分布

*自主設(shè)計(jì)制造的分子束外延（MBE）設(shè)備，包括自主設(shè)計(jì)制造的MBE超高真空外延生長(zhǎng)室、工藝控制系統(tǒng)與軟件、高溫束源爐、高溫樣品臺(tái)、Rheed原位實(shí)時(shí)在線監(jiān)控儀（反射高能電子衍射儀）、直線型電子槍、膜厚儀（可計(jì)量外延生長(zhǎng)的分子層數(shù)）、射頻源等關(guān)鍵部件。真空度達(dá)到2×10^-8Pa。

設(shè)備于2005年在浙江大學(xué)光學(xué)儀器國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室投入使用，至今仍在正常使用。

設(shè)計(jì)制造磁控濺射與等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法PECVD技術(shù)聯(lián)合系統(tǒng)，應(yīng)用于團(tuán)簇式太陽(yáng)能薄膜電池中試線。使用單位中科院電工所。

設(shè)計(jì)制造了金剛石薄膜制備設(shè)備，應(yīng)用于金剛石薄膜材料的研究與中試生產(chǎn)設(shè)備?，F(xiàn)使用單位中科院金屬研究所。

設(shè)計(jì)制造了全自動(dòng)磁控濺射設(shè)備，可加水平磁場(chǎng)和垂直磁場(chǎng)，自行設(shè)計(jì)的真空機(jī)械手傳遞基片。應(yīng)用于高密度磁記錄材料與器件的研究和中試?，F(xiàn)使用單位國(guó)家光電實(shí)驗(yàn)室。

設(shè)計(jì)制造了OLED有機(jī)半導(dǎo)體發(fā)光材料及器件的研究和中試成套裝備。現(xiàn)使用單位香港城市大學(xué)*材料實(shí)驗(yàn)室。

設(shè)計(jì)制造了MOCVD及合金退火爐，用于GaN和ZnO的外延生長(zhǎng)，實(shí)現(xiàn)LED無(wú)機(jī)半導(dǎo)體發(fā)光材料與器件的研究和中試?，F(xiàn)使用單位南昌大學(xué)國(guó)家硅基LED工程技術(shù)研究中心。

設(shè)計(jì)制造了磁控濺射研究型設(shè)備。現(xiàn)使用單位浙江大學(xué)半導(dǎo)體所。

設(shè)計(jì)制造了電子束蒸發(fā)儀研究型設(shè)備?，F(xiàn)使用單位武漢理工大學(xué)。

鵬城半導(dǎo)體中國(guó)地圖標(biāo)注.jpg

公司已投放市場(chǎng)的部分半導(dǎo)體設(shè)備

|物理氣相沉積（PVD）系列

磁控濺射鍍膜機(jī)、電子束鍍膜機(jī)、熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，離子束濺射鍍膜機(jī)、磁控與離子束復(fù)合鍍膜機(jī)

|化學(xué)氣相沉積（CVD）系列

MOCVD、PECVD、LPCVD、熱絲CVD、ICPECVD、等離子刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)

|超高真空系列

分子束外延系統(tǒng)（MBE）、激光分子束外延系統(tǒng)（LMBE）

|OLED中試設(shè)備（G1、G2.5）

|其它

金剛石薄膜制備設(shè)備、硬質(zhì)涂層設(shè)備、磁性薄膜設(shè)備、電極制備設(shè)備、合金退火爐

|太陽(yáng)能薄膜電池設(shè)備（PECVD+磁控濺射）

團(tuán)簇式太陽(yáng)能薄膜電池中試線

展開顯示更多內(nèi)容

半導(dǎo)體設(shè)備,分子束系統(tǒng)MBE,ALD原子層沉積,超高真空系列,物理氣相沉積PVD系列,化學(xué)氣相沉積CVD系列

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

品牌	鵬城半導(dǎo)體	產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)
靶材	詳見(jiàn)產(chǎn)品簡(jiǎn)介	基片溫度范圍	詳見(jiàn)產(chǎn)品簡(jiǎn)介
基片尺寸	詳見(jiàn)產(chǎn)品簡(jiǎn)介	成膜厚度均勻性	詳見(jiàn)產(chǎn)品簡(jiǎn)介
極限真空	詳見(jiàn)產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)（高真空鍍膜機(jī)）采用電阻熱蒸發(fā)技術(shù)，它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜?？捎糜谏a(chǎn)和科學(xué)實(shí)驗(yàn)，可根據(jù)用戶要求專門訂制；可用于材料的物理和化學(xué)研究；可用于制備金屬導(dǎo)電電極；可用于有機(jī)材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)、OLED實(shí)驗(yàn)研究及有機(jī)太陽(yáng)能薄膜電池研究實(shí)驗(yàn)等。

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)（高真空鍍膜機(jī)）采用電阻熱蒸發(fā)技術(shù)，它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜?？捎糜谏a(chǎn)和科學(xué)實(shí)驗(yàn)，可根據(jù)用戶要求專門訂制；可用于材料的物理和化學(xué)研究；可用于制備金屬導(dǎo)電電極；可用于有機(jī)材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)、OLED實(shí)驗(yàn)研究及有機(jī)太陽(yáng)能薄膜電池研究實(shí)驗(yàn)等。

設(shè)備構(gòu)成

-單鍍膜室

-單鍍膜室＋進(jìn)樣室

-單鍍膜室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內(nèi)）

-單鍍膜室＋進(jìn)樣室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內(nèi)）

-多鍍膜室＋樣品傳遞室＋手套箱（組成團(tuán)簇式結(jié)構(gòu)，樣品傳遞采用真空機(jī)械手）

設(shè)備組成

電阻熱蒸發(fā)源組件、樣品掩膜擋板系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)及真空測(cè)量系統(tǒng)、分子泵（或冷泵）真空機(jī)組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、手套箱連接部件、樣品傳遞機(jī)構(gòu)，膜厚控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成。

熱蒸發(fā)源類型和數(shù)量，可根據(jù)用戶需要進(jìn)行配置。

可選件：膜厚監(jiān)控儀，恒溫制冷水箱。

熱蒸發(fā)源種類及配置

電阻熱蒸發(fā)源組件：數(shù)量：1～12套（可根據(jù)用戶要求配裝）；

電阻熱蒸發(fā)源種類：鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發(fā)源組件、石英舟熱蒸發(fā)源組件、鎢極或鎢藍(lán)熱蒸發(fā)源組件、鉭爐熱蒸發(fā)源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）、束源爐熱蒸發(fā)組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）。

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)（高真空鍍膜機(jī)）工作條件（實(shí)驗(yàn)室應(yīng)具備的設(shè)備工作條件）

供電：4kW，三相五線制～ AC 380V

工作環(huán)境濕度：10℃～ 40℃

工作環(huán)境溫度：≤50%

冷卻循環(huán)水：>0.2m³/h，水溫18℃～ 25℃

水壓：0.15MPa ～ 0.25MPa

真空性能