SWC-4000兆聲掩模板清洗機(jī)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。

此外，NANO-MASTER的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項(xiàng)將會進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。

SWC系統(tǒng)能夠就地實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干。“干進(jìn)干出" 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以zui低的投資和購置成本來實(shí)現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機(jī)的工藝處理時(shí)間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。

SWC-4000兆聲掩模板清洗機(jī)應(yīng)用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
• CMP處理后的晶圓片清洗
• 晶圓框架上的切粒芯片清洗
• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
• 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
• 掩模版空白部位或接觸部位清洗
• X射線及極紫外掩模版清洗
• 光學(xué)鏡頭清洗
• ITO涂覆的顯示面板清洗

的特點(diǎn)：

• 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
• 獨(dú)立系統(tǒng)
• 無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
• 微處理機(jī)自動控制
• 化學(xué)試劑滴膠單元
• 溶劑與酸分離排廢
• 熱氮
• 30"D x 26"W 的占地面積

選配項(xiàng)：

• 掩模板或晶圓片夾具
• 臭氧清洗
• PVA軟毛刷清洗
• 高壓DI清洗
• 氮?dú)怆x子發(fā)生器