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          紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)

          參考價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司
          • 品       牌
          • 型       號(hào)NXQ4000
          • 所  在  地深圳市
          • 廠商性質(zhì)代理商
          • 更新時(shí)間2020/3/15 13:36:09
          • 訪問(wèn)次數(shù)432
          產(chǎn)品標(biāo)簽:

          紫外掩膜曝光曝光機(jī)OAI

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          聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是 智能制造網(wǎng) 上看到的信息,謝謝!

          First-Nano System GmbH 

          • 2003年          創(chuàng)立于德國(guó)德累斯頓工業(yè)大學(xué)(Dresden University of Technology)

          • 2008年          香港成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司   

          • 2015年          上海成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國(guó)代表處,負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)業(yè)務(wù)

          • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司,更好的為中國(guó)南方區(qū)市場(chǎng)

          ?

          產(chǎn)品范圍:

          薄膜沉積/Thin Film Deposition 
          E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
          刻蝕/Etching
          RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
          薄膜制程/Growth
          ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
          表面處理/Surface Treatment
          Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
          清洗/Cleaning
          - Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
          - Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

           

          光學(xué)透鏡和儀器,實(shí)驗(yàn)室器具,專用儀器儀表,電化學(xué)設(shè)備和部件
          美國(guó)NXQ以的性能,經(jīng)濟(jì)的價(jià)格,深受用戶喜愛(ài),截至2016年底,超過(guò)5000臺(tái)NXQ曝光系遍布*科研實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)中心。
          紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

          NXQ4000系列半自動(dòng)掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng),融合了du立的模塊化設(shè)計(jì),精準(zhǔn)控制對(duì)準(zhǔn)和曝光等特點(diǎn),自動(dòng)程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲(chǔ)和使用,適合實(shí)驗(yàn)室多用戶使用。

          該系統(tǒng)特點(diǎn):

          • 鍥型誤差補(bǔ)償系統(tǒng)----du特的WEC設(shè)計(jì)

          • 紫外燈源的多樣性選擇

          • 曝光光路的精準(zhǔn)控制

          • 視像分辨技術(shù)------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

          • 高效對(duì)準(zhǔn)控制-----可選配IR或OBS雙面對(duì)準(zhǔn)

           

          使用領(lǐng)域(包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝)

            • 微電子

            • LED/HBLED

            • 3D IC /晶圓制造工藝

            • 2.5D Interposer

            • MEMS

            • BioMEMS

            • 微流控芯片

            • 化合物半導(dǎo)體

            • 太陽(yáng)能(HCPV)

            • 光電子

          •  

          •  

           

          型號(hào):

          • NXQ4006半自動(dòng)型(可處理大6英寸基片)

          • NXQ4008半自動(dòng)型(可處理大8英寸基片)

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