1. 引言

金屬鋁靶材是一種被廣泛應(yīng)用于薄膜制備領(lǐng)域的金屬材料，具有高純度、均一性好、結(jié)構(gòu)致密等優(yōu)點(diǎn)。其制備工藝主要包括冶金法、電化學(xué)法、物理氣相沉積法等，其中電化學(xué)法制備的鋁靶材，價(jià)格也比較實(shí)惠。

其中包含：

1) 鋁靶 Al（鋁靶廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、TFT-LCD、裝飾等領(lǐng)域鍍膜）

2) 鋁鈧靶 AlSc（鋁鈧靶主要用于半導(dǎo)體行業(yè)集成電路和微型電機(jī)器件鍍膜）

3) 鈹銅靶 BeCu（鈹銅靶應(yīng)用于各種屏蔽室、集成電路屏蔽層和裝飾鍍膜等領(lǐng)域）

4) 摻碳鍺銻碲靶 C-GST（摻碳鍺銻碲靶材主要應(yīng)用于相變存儲(chǔ)材料）

5) 銅銦鎵靶 CIG（銅銦鎵靶材通過引入硒源，用于制備銅銦鎵硒薄膜太陽能電池中的P-type銅銦鎵硒膜層）

6) 鈷鉭鋯靶 (CoTaZr)：鈷鉭鋯靶材主要用于半導(dǎo)體集成電路和微電感器

7) 鉻靶 (Cr)：鉻靶廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、低輻射玻璃、裝飾和功能性膜層等領(lǐng)域的真空鍍膜

8) 鉻鈷靶 (CrCo)：鉻鈷靶材主要用于磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ)行業(yè)

9) 銅靶 (Cu)：銅靶通過真空濺射形成膜層，廣泛應(yīng)用于觸摸屏、半導(dǎo)體、傳感器、電路器件和裝飾品等行業(yè)的器件鍍膜

10) 銅鎵靶 (CuGa)：銅鎵靶主要用于制造銅銦鎵硒薄膜太陽能電池

11) 鋁鈧靶 (AlSc)：鋁鈧靶主要用于半導(dǎo)體行業(yè)集成電路和微型電機(jī)器件鍍膜

12) 鈹銅靶 (BeCu)：鈹銅靶應(yīng)用于各種屏蔽室、集成電路屏蔽層和裝飾鍍膜等領(lǐng)域

13) 摻碳鍺銻碲靶 (C-GST)：摻碳鍺銻碲靶材主要應(yīng)用于相變存儲(chǔ)材料

14) 銅銦鎵靶 (CIG)：銅銦鎵靶材通過引入硒源，用于制備銅銦鎵硒薄膜太陽能電池中的P-type銅銦鎵硒膜層

15) 鈷鉭鋯靶 (CoTaZr)：鈷鉭鋯靶材主要用于半導(dǎo)體集成電路和微電感器

16) 鉻靶 (Cr)：鉻靶廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、低輻射玻璃、裝飾和功能性膜層等領(lǐng)域的真空鍍膜

17) 鉻鈷靶 (CrCo)：鉻鈷靶材主要用于磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ)行業(yè)

18) 鈦靶 (Ti)：鈦靶常通過真空濺射，用于半導(dǎo)體、顯示、光伏、低輻射玻璃、耐磨和裝飾器件的鍍膜

19) 鋁鈧靶 (AlSc)：鋁鈧靶主要用于半導(dǎo)體行業(yè)集成電路和微型電機(jī)器件鍍膜

20) 釩靶 (V)：釩靶通過先進(jìn)專業(yè)的工藝流程，可用于紅外芯片

21) 鎢鈦靶 (WTi)：鎢鈦靶可用于光學(xué)、光電子學(xué)、半導(dǎo)體、LED等領(lǐng)域鍍膜

22) 鋯釔靶 (ZrY)：鋯釔靶材主要用于熱障涂層

2. 實(shí)驗(yàn)設(shè)備和方法

在鉑靶裝飾品鍍膜測(cè)試中，我們使用了太陽光模擬器作為光源。太陽光模擬器能夠產(chǎn)生與太陽光相似的光譜分布，使得測(cè)試結(jié)果更加準(zhǔn)確可靠。實(shí)驗(yàn)中，我們將鉑靶裝飾品放置在太陽光模擬器下，通過調(diào)整照射角度和光強(qiáng)，模擬不同條件下的太陽光照射。

3. 光源太陽光模擬器性能參數(shù)

太陽/日光模擬器是一種模擬太陽/日光照射的設(shè)備。由于太陽模擬器本身體積較小，測(cè)試過程不受環(huán)境、氣候、時(shí)間等因素影響，從而避免了室外測(cè)量的各種因素限制，廣泛應(yīng)用于太陽能電池特性測(cè)試，光電材料特性測(cè)試，生物化學(xué)相關(guān)測(cè)試，光學(xué)催化降解加速研究，皮膚化妝用品檢測(cè)和環(huán)境研究等。

太陽模擬器通常以氙弧燈作為光源，使用反射鏡，濾光片和其它光學(xué)器件使得到的光束在光照匹配度、輻照不均勻性、輻照不穩(wěn)定度三個(gè)主要特征符合規(guī)定的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)（通常有ASTM，IEC和JIS三個(gè)不同的標(biāo)準(zhǔn)）。根據(jù)太陽模擬器的在這三個(gè)特征上的不同表現(xiàn)，可將其分為等級(jí)A、等級(jí)B和等級(jí)C。

1. 輻照強(qiáng)度：700～1000W/m2（此范圍內(nèi)可調(diào)）

2. 波長(zhǎng)：390-1100nm AM1.5 標(biāo)準(zhǔn)光譜

3. 準(zhǔn)直半角≥1°

4. 輻照面積：根據(jù)實(shí)際需求定制

5. 光譜匹配度： A 級(jí)

6. 輻照度不均勻性：≤± 2% ; A 級(jí)

7. 不穩(wěn)定性：LTI≤± 2% ; A 級(jí)

4. 表面反射性能測(cè)試

在測(cè)試中，我們使用了光譜儀來測(cè)量鉑靶裝飾品的表面反射性能。通過測(cè)量不同波長(zhǎng)下的反射率，我們可以得到鉑靶裝飾品在可見光范圍內(nèi)的反射性能。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，鉑靶裝飾品在不同波長(zhǎng)下的反射率均較高，表明其具有良好的反射性能。

5. 表面吸收性能測(cè)試

除了表面反射性能，我們還對(duì)鉑靶裝飾品的表面吸收性能進(jìn)行了測(cè)試。實(shí)驗(yàn)中，我們使用了紅外熱像儀來測(cè)量鉑靶裝飾品在紅外光范圍內(nèi)的吸收性能。結(jié)果顯示，鉑靶裝飾品對(duì)紅外光的吸收率較低，表明其具有較好的紅外透過性能。

6. 鍍膜改進(jìn)措施

根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果，我們可以得出一些關(guān)于鉑靶裝飾品鍍膜改進(jìn)的措施?？梢酝ㄟ^優(yōu)化鍍膜工藝，提高鉑靶裝飾品的表面反射率，使其更具光澤和亮度?？梢圆捎锰厥獾耐繉硬牧?，提高鉑靶裝飾品對(duì)紅外光的吸收率，從而增加其紅外透過性能。

7. 應(yīng)用前景

鉑靶裝飾品鍍膜測(cè)試的結(jié)果對(duì)于鉑靶裝飾品的制造和改進(jìn)具有重要意義。通過優(yōu)化鍍膜工藝和材料選擇，可以提高鉑靶裝飾品的光學(xué)性能，使其更具吸引力和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。鉑靶裝飾品的良好反射性能和紅外透過性能也為其在光學(xué)器件和激光技術(shù)等領(lǐng)域的應(yīng)用提供了廣闊的前景。

8. 結(jié)論

通過太陽光模擬器進(jìn)行鉑靶裝飾品鍍膜測(cè)試，我們可以得到關(guān)于其表面反射和吸收性能的詳細(xì)信息。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，鉑靶裝飾品具有良好的表面反射性能和紅外透過性能。通過優(yōu)化鍍膜工藝和材料選擇，可以進(jìn)一步提高鉑靶裝飾品的光學(xué)性能。鉑靶裝飾品在光學(xué)器件和激光技術(shù)等領(lǐng)域的應(yīng)用前景廣闊。這些研究結(jié)果對(duì)于鉑靶裝飾品的制造和改進(jìn)具有重要意義。