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          18t/h edi高純水制取設(shè)備

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          更新時間:2023-02-12 11:18:20瀏覽次數(shù):251次

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          一、18t/hedi高純水制取設(shè)備的概述:在傳統(tǒng)的超純水制取中工藝中主要采用的反滲透(RO)技術(shù)是一種利用膜分離去除水中離子的方法

          一、18t/h edi高純水制取設(shè)備的概述:
          在傳統(tǒng)的超純水制取中工藝中主要采用的反滲透( RO )技術(shù)是一種利用膜分離去除水中離子的方法,盡管反滲透系統(tǒng)將水中 95%-98% 的離子去除,但還不能滿足工業(yè)生產(chǎn)的要求,其后續(xù)工藝使用離子交換設(shè)備,近幾十年以來,混合床離子交換技術(shù)一直作為純水制備的標準工藝,是現(xiàn)在純水設(shè)備常用的標準工藝,由于其去離子水設(shè)運行制水時需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學(xué)藥品(酸堿)和純水,因此已很難滿足于無酸堿純水系統(tǒng)。 EDI高純水制取設(shè)備系統(tǒng)是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)有機結(jié)合形成的一種新型除鹽技術(shù),可以有效的去除水中全部離子,出水電阻率可穩(wěn)定在15MΩ.CM以上,連續(xù)運行、無化學(xué)污染、水的利用率高,在高純水制備工藝上有著廣闊的應(yīng)用前景。

          二、18t/h edi高純水制取設(shè)備的進水水質(zhì)要求:
          TEA( 含 CO 2 ) <25mg/Las(CaCO3)

          PH 5 - 9
          硬度 < 0.1 mg/Las(CaCO3)

          硅 <0.5mg/L
          T OC <0.5 mg/L

          余氯 <0.05mg/L
          Fe , Mn , H2S <0.01 mg/L

          進水壓力30 - 100PSI

          三、edi高純水制取設(shè)備在經(jīng)過了近十幾年的水處理行業(yè)發(fā)展,其技術(shù)也是非常成熟,那么下面介紹一下EDI技術(shù)的發(fā)展史:
          一階段:預(yù)處理—— > 陽床 ——> 陰床 ——> 混合床
          二階段:預(yù)處理—— > 反滲透 ——> 混合床
          三階段:預(yù)處理—— > 反滲透 ——>EDI 裝置

          四、18t/h edi高純水制取設(shè)備的優(yōu)點
          edi高純水制取設(shè)備是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后,取代傳統(tǒng)的混合離子交換技術(shù)(MB-DI)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水,如產(chǎn)水電阻率要求在10兆歐以下,目前也有很多采用單級反滲透加EDI相結(jié)合的工藝,但如若想產(chǎn)水量及水質(zhì)更穩(wěn)定,還是建議采用二級反滲透加EDI制備,edi高純水制取設(shè)備技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點:
          ①edi高純水制取設(shè)備出水水質(zhì)穩(wěn)定
          ②edi高純水制取設(shè)備容易實現(xiàn)全自動控制
          ③edi高純水制取設(shè)備不會因再生而停機
          ④edi高純水制取設(shè)備不需化學(xué)再生
          ⑤edi高純水制取設(shè)備運行費用低
          ⑥edi高純水制取設(shè)備廠房面積小
          ⑦edi高純水制取設(shè)備無污水排放。


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