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          ICP-6800電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
          
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                    產(chǎn)品簡介
                
          
				
          
                      
          
                                                                      
          
					
          產(chǎn)品型號：ICP-6800                                      產(chǎn)品報(bào)價(jià)：請致電                                       相關(guān)產(chǎn)品：
          
				
          
				
          
                    詳細(xì)介紹
                
          
			    
          
			        
          
			                              

           
          產(chǎn)品簡介
          ICP-6800型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是我公司經(jīng)多年技術(shù)積累而開發(fā)的電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，用于測定各種物質(zhì)（可溶解于鹽酸、硝酸、氫氟酸等）中的微量、痕量金屬元素或非金屬元素的含量，自動(dòng)化程度高、操作簡便、穩(wěn)定可靠。目前儀器廣泛應(yīng)用于稀土、地質(zhì)、冶金、化工、環(huán)保、臨床醫(yī)藥、石油制品、半導(dǎo)體、食品、生物樣品、刑事科學(xué)、農(nóng)業(yè)研究等各個(gè)領(lǐng)域。
           6800-1.png
          6800-2.png
          工作環(huán)境
          貯存運(yùn)輸溫度           15℃-25℃
          貯存運(yùn)輸相對濕度    ≤70％
          大氣壓                      86-106 kPa
          電源適應(yīng)能力           220±10v  50-60MHz
          工作濕度                  ≤70％
          工作溫度                 15℃-30℃
           
          技術(shù)指標(biāo)
          固態(tài)電源技術(shù)指標(biāo)
          電路類型：電感反饋式自激振蕩電路，同軸電纜輸出，匹配調(diào)諧，功率反饋閉環(huán)自動(dòng)控制
          工作頻率：27.12MHz±0.05%
          頻率穩(wěn)定性：＜0.1% 
          輸出功率：800W—1200W 
          輸出功率穩(wěn)定性：＜0.3%
          電磁場泄漏輻射強(qiáng)度：距機(jī)箱30cm處電場強(qiáng)度E：＜2V/m
           
          進(jìn)樣系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)
          輸出工作線圈內(nèi)徑25mm
          矩管，三同心型，外徑20mm的石英矩管
          同軸型噴霧器外徑6mm 
          雙筒形霧室外徑34mm 
           
          氬氣流量計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格
          1.等離子氣流量計(jì)（100-1000）L/h (1.6-16L/min) 
          2.輔助氣流量計(jì)（10-100）L/h (0.16-1.66L/min) 
          3.載氣流量計(jì)（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)
          4.載氣穩(wěn)壓閥（0-0.4MPa）
          5.冷卻循環(huán)水：水溫20-25℃ 流量>5L/min 水壓>0.1MPa 
           
          單色器技術(shù)指標(biāo)
          光路：Czerny-Turner
          焦距：1000mm
          光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵，刻線密度3600線/mm(可選用刻線密度2400線/mm)
          線色散率倒數(shù)：0.26nm/mm
          分辨率：≤0.007nm(3600刻線）. ≤0.015nm(2400刻線） 
          掃描波長范圍：3600線/mm掃描波長范圍：190—500nm; 2400線/mm掃描波長范圍：190—800nm 
          步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)最小步距:0.0006 nm
          出射狹縫：12μm入射狹縫：10μm
           
          光電轉(zhuǎn)換器技術(shù)指標(biāo)
          光電倍增管規(guī)格：R293或R298
          光電倍增管負(fù)高壓：0-1000V穩(wěn)定性＜0.05%  
           
          整機(jī)技術(shù)指標(biāo)
          掃描波長范圍：195nm～500nm（3600L/mm光柵）195nm～800nm（2400L/mm 光柵）
          重復(fù)性：（即短期穩(wěn)定度）相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5％
          穩(wěn)定性：相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2％
           
          檢出限（µg/L）：
          元素波長檢出限元素波長檢出限
           La 408.672   <3.0Cr267.716<5.0
          Ce413.765 <5.0 Al 396.152   <5.0
          Pr 414.311   <5.0 Zr 343.823    <5.0      
           Nd401.225<5.0 Ag 328.068<3.0
          Sm360.946 <10.0 Sr  407.771   <1.0
           Eu 381.967   <1.0Au 242.795  <5.0
           Gd 342.247  <10.0Pt265.945 <5.0
           Tb 350.917     <3.0Pd 340.458  <5.0
          Dy353.17<3.0Ir 224.268   <10.0
          Ho 345.600     <3.0Rh343.489 <10.0     
           Er 337.271    <3.0Ru 240.272    <5.0      
          Tm 313.126   <3.0Ba 455.403     <1.0    
          Yb 369.419   <1.0As 228.812   ≤15
          Lu261.541<3.0Sb206.833≤15
          Y371.03<1.0Bi223.061≤10
          Sc335.373 <1.0 Hg 253.652 ≤15     
          Ta 226.230  <5.0Pb220.353≤15
          Nb313.34 <5.0Ga294.364≤10
          Mn 257.610   <3.0Se203.985≤10
          Mg 279.553   <1.0Sn 242.949   ≤20
          B 249.773   <10.0Te214.281 ≤10      
          Zn213.856<3.0Ta226.23≤5.0
          Co228.616 <3.0Th283.73 ≤10      
          Si 251.611    <10.0 Tl 276.787≤30
          Ni 232.003  <5.0Re227.525≤5
          Cd 226.502  <3.0Ge 209.426     ≤15
          Fe239.562 <3.0 Os 225.585≤1
          Ca 393.366    <1.0 W  207.911≤10
          Mo 281.615   <5.0Cu 324.754   <3.0
          V310.23<5.0Li670.784 ≤3        
           Be313.041<1.0Na588.995≤20
          Ti 334.941    <3.0K 766.490≤60

          軟件界面
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