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          上海德竹芯源科技有限公司


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          SENTECH-沉積刻蝕多腔互聯(lián)系統(tǒng)

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          具體成交價以合同協(xié)議為準

          產品型號定制

          品       牌

          廠商性質其他

          所  在  地上海

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          更新時間:2024-05-15 09:19:22瀏覽次數(shù):77次

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          產品簡介

          SENTECH 多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂,可適用于三至六個端口??墒褂枚噙_兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可配備多種選擇。

          詳細介紹

          沉積刻蝕多腔互聯(lián)系統(tǒng)

          RIE&CVD Cluster System

          高產能:等離子蝕刻和沉積腔體可與多達兩個片盒站組合,用于到 200 mm 晶片的高產量工藝。

          研發(fā):三到六個端口傳送腔室可用于集成 ICP 等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD 和 ICPECVD 沉積設備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可通過預真空室和/或真空片盒站加載。

          高質量的多腔系統(tǒng):ICP-RIE 等離子刻蝕腔體可與兩個片盒站組合用于 200mm 晶片的高產量并行工藝。

          ICP-RIE,RIE,PECVD 和 ICPECVD 等腔體可與預真空室,片盒站等組合使用,以滿足研發(fā)的特殊要求。

          SENTECH 多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂,可適用于三至六個端口??墒褂枚噙_兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可配備多種選擇。

          用于研發(fā)的 SENTECH 多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。強大的控制軟件可用于工業(yè)領域高產量的多腔系統(tǒng)。

          關鍵詞:機械手

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