在前面的一些指紋門(mén)禁一體機(jī)中描述了計(jì)算某圖像塊的平均紋路周期的方法，指紋圖像的平均周期可以計(jì)算為前景圖像塊的紋路周期的平均值，但其中計(jì)算特定圖像塊的平均周期時(shí)投影窗口的尺寸遠(yuǎn)大于圖像塊的尺寸，紋路方向可能會(huì)在投影窗口中發(fā)生較大變化，從而影響平均周期的正確計(jì)算；另一方面，投影窗口的尺寸遠(yuǎn)大于圖像塊的尺寸會(huì)使得圖像塊被重復(fù)投影，也會(huì)影響平均周期的正確計(jì)算。鑒于此，本節(jié)首先將指紋圖像JA6分為不相交的尺寸較大的的矩形區(qū)域，并計(jì)算每一區(qū)域P的局部周期信息，然后根據(jù)局部周期信息計(jì)算平均周期。計(jì)算局部周期信息的基本方法是：先計(jì)算出一條穿過(guò)該區(qū)域中心的曲線，使該曲線上每一點(diǎn)(，y)的切線方向和o(，7)垂直，只考慮曲線上位于區(qū)域W內(nèi)的曲線段。在前面的一些實(shí)驗(yàn)中給出了指紋平均周期的計(jì)算方法以及基于平均周期的分類(lèi)方法。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：基于平均周期的系統(tǒng)穿透系數(shù)小于H叫模式理想情況下的系統(tǒng)穿透系數(shù)。使用平均周期的一個(gè)好處是：對(duì)于任何指紋都能計(jì)算出平均周期，不會(huì)被拒絕分類(lèi)：而Henv模式下對(duì)于沒(méi)有核心點(diǎn)的圖像將會(huì)被拒絕分類(lèi)。另一個(gè)好處是：使用平均周期分類(lèi)時(shí)類(lèi)與類(lèi)之間的距離可度量，可以使用平均周期之差作為距離，從而在數(shù)據(jù)庫(kù)中搜索與輸入指紋匹配的指紋時(shí)可以從與輸入指紋距離最小的類(lèi)開(kāi)始進(jìn)行理索；而H。呵模式下類(lèi)與類(lèi)之間的距離不可度量。第三個(gè)好處是：平均周期可以容易地和其他特征結(jié)合在一起進(jìn)行指紋分類(lèi)。