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電離釋放型動態(tài)水處理器
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訪問次數(shù)：138更新時間：2022-07-09 10:45:46
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產(chǎn)品介紹
一、使用電離釋放型動態(tài)水處理系統(tǒng)的幾個理由
傳統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水的方法主要是加入化學(xué)藥品來抑制微生物生長和結(jié)垢，但因水中藥品和無機鹽隨水的蒸發(fā)而濃度增加，這樣必須排放部分含藥和無機鹽的冷卻水，同時及時補充清潔水。傳統(tǒng)處理方法帶來的問題：系統(tǒng)用水量增加和大量排水，間接導(dǎo)致水費增加；微生物的抗藥性，要求及時地、適時地改變藥品；盡管如此，結(jié)垢問題、生物膜，軍團菌三大問題還是不能*解決。
由冷卻塔等設(shè)備形成的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是軍團菌容易生存、繁殖的場所之一，同時可借助冷卻風(fēng)機，將軍團菌散布至都市各個角落，對人體產(chǎn)生極大的危害之隱患。
二、循環(huán)冷卻水質(zhì)穩(wěn)定性判斷
1、 飽和指數(shù)法：IL=Phe-PHs
式中IL-飽和指數(shù)（朗格利爾指數(shù)）
熱組為傳熱系數(shù)的倒數(shù)
PHe-水的實例PH值
PHs-水的碳酸鈣飽和平衡時的PH值：
（1） 當(dāng)IL＝PHe-PHs＞0時，水中的碳酸鈣處于飽和狀態(tài)，有結(jié)構(gòu)傾向。
（2） 當(dāng)IL＝PHe-PHs＝0時，水中的碳酸鈣剛好處于平衡狀態(tài)，不腐蝕、不結(jié)垢。
（3） 當(dāng)IL＝PHe-PHs＜0時，水中CO2過飽和，有腐蝕傾向。
2、 穩(wěn)當(dāng)指數(shù)法：IL＝2PHs-PHe
3、 臨界PH值法
4、 用試驗方法測得剛剛出現(xiàn)結(jié)垢時的水的PH值，稱為臨界PH值，用PHc表示。
動態(tài)離子群控制：PH值 電導(dǎo)率 濁度 鈣離子 鎂離子 軍團菌
微生物 總硬度 鋅離子 總鐵離子 正磷 總磷
離子群的簡寫：Cooperate
三、動態(tài)；離子群的控制原理
在噴淋式冷卻塔中，軍團菌最易繁殖。軍團菌也是一種非典型肺炎病菌，能在25-42℃水溫下迅速繁殖，這種病菌通常存在于空調(diào)冷卻塔，加濕器和冷熱水管道中，由飛灑的水滴和灰塵攜帶，通過建筑物的通風(fēng)系統(tǒng)和空調(diào)的新風(fēng)系統(tǒng)進(jìn)入室內(nèi)。
磷酸鹽和聚合物類阻垢劑
冷卻水系統(tǒng)在水高濃縮倍數(shù)下進(jìn)行，由于磷酸鹽會大量的附著在金屬的表面上，反而引起結(jié)垢的危害，并且，聚磷酸鹽會水解生成正磷酸鹽，生成磷酸鹽垢。后有磷酸鹽和聚合物類阻垢劑的復(fù)合藥劑，即使冷卻水被高度濃縮，仍能充分發(fā)揮緩蝕和阻垢效果。
1、光催化劑的只要成分是納米級的，它吸收陽光中的紫外線后，可形成活性氧類的超氧化物，破壞病毒所寄宿細(xì)胞的細(xì)胞膜，凝固病毒的蛋白質(zhì)，抑制病毒的活性和細(xì)菌的繁殖，殺菌能力達(dá)到99.9%。
2、氧化性殺菌劑通常為強氧化劑，能夠氧化微生物體內(nèi)起代謝作用的酶，從而殺滅微生物。氧化性殺菌劑對所有的微生物都有良好的殺滅能力。
3、非氧化性殺菌劑是以致毒劑作用于微生物，破壞微生物的新陳代謝或分裂細(xì)胞壁。
4、剝離劑在冷卻水中使用微生物剝離劑，他們不能直接殺死微生物，但是可以將微生物從系統(tǒng)中剝離下來，被沖走或由殺菌劑將其殺滅。主要的特點，剝離劑可以去除微生物粘泥的沉積，保證系統(tǒng)的清潔，這是控制軍團菌有效的方法
氯化銀
微生物在循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中的大量繁殖生長會使水質(zhì)惡化影響系統(tǒng)正常運行。由日本開發(fā)研制的載銀玻璃抗菌劑以磷酸鹽玻璃和硼硅酸鹽玻璃為載體，在玻璃熔制過程中加入了氧化銀作為殺菌成分。在冷卻循環(huán)水箱中添加適量上述可溶性玻璃及適量銅鋅合金纖維，可以持久抑菌、滅藻及防止污穢。另一種工業(yè)循環(huán)冷卻水用殺菌玻璃由SiO2、Na2O、A2O3和Ag2O組成，由于不含硼，所以這種玻璃成本低，含少量Al2O3可提高玻璃中Ag2O的含量并減緩玻璃的潮解，殺菌滅藻性能更強、更持久。
空調(diào)水系統(tǒng)
在熱水系統(tǒng)包括空調(diào)水系統(tǒng)中經(jīng)常會滋生一些致病微生物,如軍團菌等,危害人類健康。直接使用銀鹽就能很好地殺滅熱水系統(tǒng)中的軍團菌。研究表明，3μg/ L 的銀離子就能很好地控制循環(huán)熱水系統(tǒng)中軍團菌的生長。為控制熱水系統(tǒng)中的軍團菌，現(xiàn)在使用較多的是銅銀離子復(fù)合殺菌劑。Stout等在醫(yī)院熱水系統(tǒng)中采用含銀離子0104 mg/ L 、銅離子0117 mg/ L 的銅銀離子復(fù)合殺菌劑來控制軍團菌并取得了較好的效果。游泳池水處理
游泳池水處理用殺菌劑必須有高度的安全性，因此含銀殺菌劑在這一領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。Antelman 發(fā)明了一種能用于游泳池水處理的殺菌劑，該藥劑以正2 價銀的氧化物為主要殺菌物質(zhì)，能在水中穩(wěn)定存在，殺菌效率高，并且對人體有高度的安全性，完取代氯系、溴系殺菌劑。
游泳池水處理用殺菌劑必須有高度的安全性，因此含銀殺菌劑在這一領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。Antelman 發(fā)明了一種能用于游泳池水處理的殺菌劑，該藥劑以正2 價銀的氧化物為主要殺菌物質(zhì)，能在水中穩(wěn)定存在，殺菌效率高，并且對人體有高度的安全性，完取代氯系、溴系殺菌劑。
飲用水處理
億利達(dá)公司研制出一種飲用水用高分散銀型活性炭纖維殺菌劑，與水接觸后可緩釋出銀離子，從而起到殺菌作用。據(jù)報道，這種高分散銀型活性炭纖維與水接觸2 h 后就可將常見病原性的大腸桿菌和*殺滅。
億利達(dá)公司研制出一種飲用水用高分散銀型活性炭纖維殺菌劑，與水接觸后可緩釋出銀離子，從而起到殺菌作用。據(jù)報道，這種高分散銀型活性炭纖維與水接觸2 h 后就可將常見病原性的大腸桿菌和*殺滅。
氧化硼
加入H2S04，使易揮發(fā)的PbCl2轉(zhuǎn)變成難揮發(fā)的PbSO4或?qū)⒙入x子轉(zhuǎn)變?yōu)槎s走。NaOH曾被用來沉淀鐵為氫氧化鐵或轉(zhuǎn)鋅為鋅酸鹽；H3B03可以防止Pb（ND3）2被器皿滯留并使PbCl2定量回收，是因為硼與硅和鉛反應(yīng)形成了硼-硅-鉛玻璃，而防止鉛被揮發(fā)，同時由于氧化硼形成二相的化合物，在酸的作用下，可以使Pb定量的轉(zhuǎn)入溶液，而防止了被石英器皿滯留。
加入H2S04，使易揮發(fā)的PbCl2轉(zhuǎn)變成難揮發(fā)的PbSO4或?qū)⒙入x子轉(zhuǎn)變?yōu)槎s走。NaOH曾被用來沉淀鐵為氫氧化鐵或轉(zhuǎn)鋅為鋅酸鹽；H3B03可以防止Pb（ND3）2被器皿滯留并使PbCl2定量回收，是因為硼與硅和鉛反應(yīng)形成了硼-硅-鉛玻璃，而防止鉛被揮發(fā)，同時由于氧化硼形成二相的化合物，在酸的作用下，可以使Pb定量的轉(zhuǎn)入溶液，而防止了被石英器皿滯留。
槐氏公式的定性解
分散度即顆粒大小，分散度越大，顆粒越小。
分散度即顆粒大小，分散度越大，顆粒越小。
Cq－加入沉淀劑瞬間沉淀物的濃度； s－開始沉淀時，沉淀物的溶解度；
Co－S-沉淀開始瞬間的過飽和度； Co-S －沉淀開始瞬間的相對過飽和度；
S
沉淀的形成過程
1、沉淀形成過程
1、沉淀形成過程
構(gòu)晶離子（飽和溶液）成核作用 成長 ｛聚集→無定開沉淀｝
→ 晶核 → 沉淀微粒｛定向排列→晶形沉淀｝
2、成核作用（晶核的形成）（1）均相成核作用（自發(fā)成核）
構(gòu)晶離子在過飽和溶液中由于靜電作用先形成離子對→離子群→晶核。
（2）異相成核作用（誘導(dǎo)成核）
溶液中某些固體微粒、容器壁上的毛刺等起晶種作用，形成晶核（晶核數(shù)不變）。
表面吸附
吸附層：優(yōu)先吸附構(gòu)晶離子 。
擴散層：優(yōu)先吸附與構(gòu)晶離子能形成溶解度小，離解度小的物質(zhì)的抗衡離子。當(dāng)C相近時，
Z愈大，變形性愈大，越易被吸附；
當(dāng)Z相同時，C愈大，越易被吸附。
一般，某些陰陽離子被吸附的強度順序
吸附層：優(yōu)先吸附構(gòu)晶離子 。
擴散層：優(yōu)先吸附與構(gòu)晶離子能形成溶解度小，離解度小的物質(zhì)的抗衡離子。當(dāng)C相近時，
Z愈大，變形性愈大，越易被吸附；
當(dāng)Z相同時，C愈大，越易被吸附。
一般，某些陰陽離子被吸附的強度順序
1/2SO2-4＜CI-＜Br-＜I-＜SCN-＜OH-
Li+＜Na+＜K+＜Rb+＜Cs+＜NH+4＜Mg2+＜Ca2+＜Ba2+＜AI3+＜Fe3+···＜H+
參數(shù)與功能要求
過濾精度：1.0～8.0mm 管道連接：GB法蘭
離子置換率>90% 濁度<21 PH 7~8
總硬度<800mg/L 設(shè)備承壓≤1.6mpa
電流：Ac220v 50Hz 溶縮倍數(shù)：6～8倍
除垢：>99% 防垢：>99%
除銹：>98% 水溫：0~80℃
殺軍團菌率>99% 滅藻率>99%
殺滅細(xì)菌率>99% 壓損<0.016Mpa
流速1～25m/s 水頭損失：0.15～1.0m
壓差范圍：28～310KPa 電異率≤200us/cm
防腐蝕率：<0.005毫米/年 腐蝕速度≤0.125mm／a(5mpy)
色度≤80~100 陰離子N03
過濾精度：1.0～8.0mm 管道連接：GB法蘭
離子置換率>90% 濁度<21 PH 7~8
總硬度<800mg/L 設(shè)備承壓≤1.6mpa
電流：Ac220v 50Hz 溶縮倍數(shù)：6～8倍
除垢：>99% 防垢：>99%
除銹：>98% 水溫：0~80℃
殺軍團菌率>99% 滅藻率>99%
殺滅細(xì)菌率>99% 壓損<0.016Mpa
流速1～25m/s 水頭損失：0.15～1.0m
壓差范圍：28～310KPa 電異率≤200us/cm
防腐蝕率：<0.005毫米/年 腐蝕速度≤0.125mm／a(5mpy)
色度≤80~100 陰離子N03
四、技術(shù)參數(shù)
| 型號 | 進(jìn)出水口徑 （mm） | 較大處理 流量(T/H) | 主機尺寸 | 副機尺寸 | 電源 | 離子群釋 放時間 | 參數(shù)重量 | ||||||
| L | H | B | L | h1 | d | | 主機 | 副機 | |||||
| YLDL-2S | 50 | 35 | 600 | 1200 | 500 | 680 | 251 | 612 | 20 | 220V | 150 | 30 | 45 |
| YLDL-3S | 80 | 55 | 600 | 1200 | 500 | 710 | 278 | 612 | 25 | 220V | 150 | 30 | 48 |
| YLDL-4S | 100 | 90 | 600 | 1200 | 500 | 710 | 318 | 612 | 25 | 220V | 150 | 30 | 56 |
| YLDL-5S | 125 | 130 | 600 | 1200 | 500 | 730 | 327 | 645 | 25 | 220V | 150 | 30 | 72 |
| YLDL-6S | 150 | 190 | 600 | 1200 | 500 | 730 | 382 | 695 | 40 | 220V | 150 | 30 | 80 |
| YLDL-8S | 200 | 320 | 600 | 1200 | 500 | 780 | 410 | 825 | 40 | 220V | 150 | 30 | 95 |
| YLDL-10S | 250 | 500 | 600 | 1200 | 500 | 805 | 490 | 850 | 50 | 220V | 150 | 30 | 126 |
| YLDL-12S | 300 | 760 | 600 | 1200 | 500 | 935 | 520 | 910 | 50 | 220V | 150 | 30 | 175 |
| YLDL-14S | 350 | 1100 | 600 | 1200 | 500 | 1080 | 554 | 930 | 80 | 220V | 150 | 30 | 216 |
| YLDL-16S | 400 | 1350 | 600 | 1200 | 500 | 1180 | 572 | 985 | 80 | 220V | 150 | 30 | 265 |
| YLDL-18S | 450 | 1600 | 600 | 1200 | 500 | 1260 | 600 | 1025 | 80 | 220V | 150 | 30 | 358 |
| YLDL-20S | 500 | 2200 | 600 | 1200 | 500 | 1345 | 718 | 1070 | 100 | 220V | 150 | 30 | 475 |
| YLDL-24S | 600 | 2900 | 600 | 1200 | 500 | 1490 | 841 | 1140 | 100 | 220V | 150 | 30 | 740 |
| YLDL-28S | 700 | 3450 | 600 | 1200 | 500 | 1620 | 992 | 1186 | 100 | 220V | 150 | 30 | 999 |
| YLDL-32S | 800 | 4150 | 600 | 1200 | 500 | 1700 | 1190 | 1245 | 100 | 220V | 150 | 30 | 1350 |
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