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詳細介紹
WD1250I型“布美蘭”曬版機
| 該機在參照日本“布美蘭”設(shè)備基礎(chǔ)上，采用上壓式，版輥壓力都保持*狀態(tài)。*改變下頂式曬版設(shè)備因大小版重量相差太大而導(dǎo)致的壓力變化使曬版質(zhì)量下降的缺陷及側(cè)壓曬版設(shè)備氣壓變化影響曬版效果的特點，并改變了側(cè)壓曬版時諸多塵埃隨密著液進入版輥和膠片中間，造成曬版光點多的弊病。本廠在國內(nèi)*打破多支燈管曬版的傳統(tǒng)格式，采用1支長燈管，解決了曬版不勻及燈光弱的問題。 |
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