泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術生態(tài)系統(tǒng)

2022-07-18 11:20:35來源：TechWeb.com.cn 關鍵詞：半導體機器學習人工智能閱讀量：23443

導讀：近日，泛林集團、Entegris和Gelest三方將合作對未來幾代邏輯和DRAM器件生產所使用的EUV干膜光刻膠技術進行研發(fā)，此外，泛林、Entegris和Gelest還將攜手合作，加快開發(fā)未來用于高數(shù)值孔徑(高NA)EUV圖形化的高性價比EUV干膜光刻膠解決方案。

　　7月17日消息，泛林集團、Entegris和三菱化學集團旗下公司Gelest于近日宣布了一項戰(zhàn)略合作，將為全球半導體制造商提供可靠的前體化學品，用于下一代半導體生產所需的、泛林突破性的極紫外(EUV)干膜光刻膠創(chuàng)新技術。三方將合作對未來幾代邏輯和DRAM器件生產所使用的EUV干膜光刻膠技術進行研發(fā)，這將有助于從機器學習和人工智能到移動設備所有這些技術的實現(xiàn)。

　　大的工藝化學品供應鏈對于EUV干膜光刻膠技術運用到量產至關重要。這一新的長期合作將進一步擴大干膜光刻膠技術不斷發(fā)展的生態(tài)系統(tǒng)，由半導體材料領先者提供雙源供應，保障全球所有市場的持續(xù)供應。

　　此外，泛林、Entegris和Gelest還將攜手合作，加快開發(fā)未來用于高數(shù)值孔徑(高NA)EUV圖形化的高性價比EUV干膜光刻膠解決方案。高NA EUV被廣泛認為是未來幾十年半導體器件持續(xù)微縮和發(fā)展所需要的圖形化技術。干膜光刻膠能實現(xiàn)高抗刻蝕性及沉積和顯影所需的可調厚度比例，以支持高NA EUV降低焦深的要求。

　　原標題：泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術生態(tài)系統(tǒng)

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